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Department Of Electronic Engineering Tohoku University | 論文
- 大規模回路エミュレーション用90nm CMOSマルチコンテクストFPGAの遅延評価(リコンフィギャラブル・アーキテクチャと論理合成,FPGA応用及び一般)
- マグネトロンスパッタによるSiO_2基板上への微結晶SiGeの堆積(結晶成長,評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料))
- マグネトロンスパッタによるSiO_2基板上への微結晶SiGeの堆積(結晶成長,評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料))
- 省エネ組込みヘテロジニアス・マルチチップ積層COOL Systemの開発
- オブジェクト要求ブローカのハードウェア化によりオブジェクトレベル通信を加速する「ORBエンジン」の提案(オペレーティング・システム/コンパイラ)
- Effects of Ion Energy Control on Production of Nitrogen-C_ Compounds by Ion Implantation
- Creation of Novel Structured Nanocarbons Based on Plasma Technology (第45回真空に関する連合講演会プロシーディングス--2004年10月27日〜29日,大阪)
- Urea Sensor Based on an Ion Sensitive Field Effect Transistor. II. Effects of Buffer Concentration and pH on the Potentiometric Response
- Comparison of Gene Expression in Breast Cancer Using Laser Capture Microdissection and Quantitative RT-PCR(Prof. K Watanabe Memorial Article)
- ULSI用低抵抗コンタクトのための低バリアハイトメタルシリサイドの形成(プロセス科学と新プロセス技術)
- 酸素ラジカルを用いて形成したSiO_2/Si界面における組成遷移と価電子帯オフセットの基板面方位依存性(プロセス科学と新プロセス技術)
- 次世代LSI向け低誘電率絶縁膜/Cuダマシン配線の形成(プロセス科学と新プロセス技術)
- 原子スケールで平坦なSiO_2/Si酸化膜界面歪の評価(プロセス科学と新プロセス技術)
- Cleaning Characteristics of Vacuum Arc for Organic Contaminant on Metal Surface(Advanced Fusion of Functional Fluids Engineering)
- Dispersion Relation of Drift-Wave Instability in a Collisionless Plasma with Sheared Magnetic Field
- Collisional Drift Instability in a Weakly Ionized Plasma
- 電子デバイス製造用クリーンルームにおける室内系統水噴霧加湿の研究 : 第1報-省エネルギー効果の検証
- A voice-generation system using an intramouth vibrator
- Urea Sensor Based on an Ion-Sensitive Field Effect Transistor. IV. Determination of Urea in Human Blood(Analytical,Chemical)
- Urea Sensor Based on an Ion-Sensitive Field Effect Transistor. III. : Effects of Enzyme Load and Ionic Strength on the Potentiometric Response
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