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芝浦工業大学工学部電子工学科 | 論文
- C-3-29 Si導波路を用いた干渉型光アイソレータの動作実証(半導体導波路デバイス,C-3. 光エレクトロニクス,一般セッション)
- TiO_2/磁性ガーネット導波層を有する非相反移相効果を利用した導波路型光アイソレータ(超高速伝送・変復調・分散補償技術,超高速光信号処理技術,広帯域光増幅・WDM技術,受光デバイス,高光出力伝送技術,一般,(ECOC報告))
- 半導体技術を用いる新規ニードル型バイオセンサー
- 半導体プロセスで作成するニードル型グルコースバイオセンサー:新規薄膜銀/塩化銀参照電極とプラズマ重合膜の利用
- CT-1-4 表面活性化接合によるSi導波路磁気光学光アイソレータの製作(CT-1.ヘテロジニアス・インテグレーション技術の現状と展望,チュートリアル講演,ソサイエティ企画)
- プラズマ重合膜で補強したカーボンナノチューブを用いる電気化学センサ(有機材料・一般)
- プラズマ重合膜で補強したカーボンナノチューブを用いるNADHセンサ動作の低電位化(有機材料・一般)
- 局所的プラズマ処理を利用するタンパク質パターンニング(有機材料・一般)
- カーボンナノチューブとプラズマ重合膜を用いる化学/バイオセンサ(有機材料・一般)
- 強誘電体インクの安定性改善(シリコン関連材料の作製と評価)
- アルコール系原料を用いた強誘電体膜の電気的特性評価(シリコン関連材料の作製と評価)
- アルコール系溶液による強誘電体薄膜特性の焼成条件依存性(シリコン関連材料の作製と評価)
- インクジェット法におけるパターン形状の改善(シリコン関連材料の作製と評価)
- インクジェット法によるビスマス系強誘電体薄膜の作製(半導体Si及び関連材料・評価)
- 白金上チタン酸ビスマス薄膜における過剰ビスマス添加効果(新型不揮発性メモリ)
- 白金上チタン酸ビスマス薄膜における過剰ビスマス添加効果
- BIT薄膜に及ぼす下部Pt電極の安定性(シリコン関連材料の作製と評価)
- チタン酸ビスマス薄膜の作製におけるシリコン添加効果(半導体Si及び関連材料・評価)
- Preparation of Bismuth Titanate Thin Films by Alternately Applying Metal-Organic Decomposition and Their Properties
- 原料交互塗布によるチタン酸ビスマス薄膜の特性(物性,成膜,加工,プロセス : 強誘電体薄膜とデバイス応用)
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