スポンサーリンク
物質・材料研究機構 ナノマテリアル研究所 | 論文
- 応用物性
- 応用物性
- 原子的に平坦化されたSi(111)表面へのCuナノ細線の形成と原子間力顕微鏡およびフーリエ変換赤外分光法による評価
- 19pPSB-35 H_2Oの2分子解離吸着によるSi(100)-(2x1)表面上でのC欠陥生成
- 水素化シリコン系薄膜の成長初期過程-走査トンネル顕微鏡によるナノスケール観察-
- X線逆格子イメージング法を用いた表界面ナノ構造評価
- IUVSTA 1998-2001期報告
- IUVSTAだより
- 六方晶窒化ホウ素-銅複合膜被覆した真空容器の雰囲気圧力安定性
- IUMRS-ICAM'99[中国MRS]
- ポルフィリン分子の非平面化吸着
- 23pWB-7 Si(001)表面上のビスマス原子細線の構造 I. : X線定在波法による界面構造解析
- シリコン酸化膜成長過程の表面応力変動
- プラズマ酸窒化中のシリコン表面応力変動
- 電子照射によるシリコンの表面応力の緩和
- クリプトン酸素混合プラズマによるシリコン酸化中の表面応力変動
- 30aXE-8 欠陥による表面応力の発生とその電子誘起緩和
- ドデカンチオールの脱離に伴う微少応力の変動
- プラズマ酸化過程におけるSiの表面応力の研究
- 26p-YR-16 バイアスを印可したプラズマ酸化過程におけるSi表面応力の研究II