スポンサーリンク
物質・材料研究機構 ナノマテリアル研究所 | 論文
- 26p-YR-15 バイアスを印可したプラズマ酸化過程におけるSi表面応力の研究I
- 低エネルギー電子照射による結晶欠陥の原子レベル回復現象
- コハク酸のCu(110)表面での吸着状態と仕事関数
- グルタル酸の Cu(110)表面での吸着構造
- N-Acetylglycine のCu(110)表面での吸着状態と仕事関数
- Cu(110)表面でのハイドロムコン酸の吸着状態
- 格子整合系GaAs/AlGaAs量子ドットの液滴エピタキシーによる作製と光学特性評価
- 19pRG-5 GaAs単一量子ドットの発光スペクトル
- 18aPS-28 GaAs量子ドットにおけるサブレベル間緩和過程
- InGaAs量子ドットのSPEED法による作製とその光学特性
- ナノマテリアル研究の戦略
- Si表面で形成されるBi細線の電子顕微鏡観察
- DNAテンプレートを利用する金属ナノアレイの調製
- レーザー注入法を用いた有機分子による微細パターン形成
- インターネットを利用した化学スペクトル解析システム
- 自己組織化マップを用いた化学分析での情報抽出
- 高分解能角度分解分光装置用大型ミューメタルチャンバーの真空排気特性
- 酸化物超電導体を用いた磁気浮上型搬送装置
- メスバウアー効果の応用に関する国際会議(ICAME 2003)印象記
- 26a-O-11 Cs/Graphite(0001)の低速電子エネルギー損失スペクトル、オージェ電子スペクトル