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東北大学 大学院 工学研究科 | 論文
- CMOSイメージセンサの画素トランジスタのノイズ測定(イメージセンサ一般(IISW報告会含む))
- 高温下の耐性・撮像性能を改善した広ダイナミックレンジCMOSイメージセンサ(イメージセンシング技術とその応用)
- 横型オーバフロー蓄積と電流読出し動作を組合せたダイナミックレンジ200dB超のCMOSイメージセンサ(イメージセンシング技術とその応用)
- 画素SFのフィードバック動作を用いた高感度CMOSイメージセンサ (情報センシング)
- 200dB超の広ダイナミックレンジ性能をもつ横型オーバーフロー容量CMOSイメージセンサの高S/N動作方法
- 横型オーバーフロー蓄積と電流読み出し動作を組み合わせたダイナミックレンジ200dB超のCMOSイメージセンサ
- 感度とリニアリティ特性を改善した横型オーバーフロー蓄積容量型広ダイナミックレンジCMOSイメージセンサ
- 横型オーバーフロー蓄積容量を用いた広ダイナミックレンジCMOSイメージセンサの暗電流耐性とオーバーフロー特性(アナログ・デジアナ・センサ, 通信用LSI)
- 横型オーバーフロー蓄積容量を用いた広ダイナミックレンジCMOSイメージセンサ
- リアルタイムオブジェクト分離を行う高機能CMOSイメージセンサ
- リアルタイムオブジェクト分離を行なう高機能CMOSイメージセンサ
- 会議報告 21st International Conference on Magnet Technology [MT-21]
- マイクロ波励起プラズマ有機金属化学気相堆積装置の開発と強誘電体Sr_2(Ta_,Nb_x)_2O_7膜の形成(不揮発性メモリ及び関連プロセス一般)
- SiC基板上高品質ゲート絶縁膜の低温形成(シリコン関連材料の作製と評価)
- SiC基板上高品質ゲート絶縁膜の低温形成
- 微細MOSトランジスタ特性の統計的ばらつき評価手法に関する研究
- 大規模アレイTEGにより評価した低ビットエラーのKr/O_2/NOトンネル酸窒化膜の形成
- SiC上に低温で形成されたゲート絶縁膜の電気的特性における残留カーボン依存性,AWAD2006)
- SiC上に低温で形成されたゲート絶縁膜の電気的特性における残留カーボン依存性
- 直接窒化膜特性のシリコン結晶面密度依存性