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早稲田大学ナノテクノロジー研究所 | 論文
- Al-si合金膜表面のジンケート処理に対する下地Si基板の影響
- フィニッシュからスタートまで
- 低速陽電子ビームを用いたhigh-kゲート絶縁膜の空隙の評価(ゲート絶縁膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)
- ソフトガードバンドを有する垂直磁気記録媒体の磁化反転機構(ハードディスクドライブおよび一般)
- 金属電極とハフニウム系高誘電率ゲート絶縁膜界面の実効仕事関数変調機構(シリコン関連材料の作製と評価)
- 金属電極/high-k絶縁膜キャパシタのフラットバンド電圧特性に与える仕事関数変調及び熱処理の影響(ゲート絶縁膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)
- ソフトガードバンドを有する垂直磁気記録媒体の磁化反転機構(ハードディスクドライブ及び一般)
- 82. 樹脂製マイクロチャネルアレイを用いた血液流動試験(第80回 日本医科器械学会大会 一般演題講演集)
- ウェットプロセスによる磁性ナノドットパターン膜形成の試み(高密度記録媒体の開発とその関連技術の進展)
- シリコンとhigh-kゲート絶縁膜の界面の高分解能RBS/ERD分析(シリコン関連材料の作製と評価)
- 酸素雰囲気アニール中のHfO_2/SiO_2/Si(001)界面反応の高分解能RBS観察(ゲート絶縁膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)
- G154 めっき並びに切削加工で製作したサブミリチャネルCOSMOS heat pipeの熱輸送能力検証試験(一般セッション 熱機関・システムII)
- 118 めっき並びに切削加工によるサブミリチャネルCOSMOS heat pipeの試作(材料力学(4),加工,材料)
- 分子エレクトロニクス用マイクロギャップ平坦電極の作製
- HfSiON/TiNゲートスタックpMOSFETの陰極電子注入絶縁破壊モデルに基づくTDDB寿命予測方法
- メタルゲート/HfSiONゲート絶縁膜ゲートスタックにおけるピニング現象の改善策検討
- シリコン導波路上ブラッググレーティングによるバンド選択インターリーバの作製と評価
- シリコン導波路上ブラッググレーティングによるバンド選択インターリーバの作製と評価(フォトニックNW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,光集積回路,光導波路素子,光スイッチング,導波路解析,一般)
- 中モードサイズを有する実用的SOIリブ導波路の設計, 作製と評価
- 中モードサイズを有する実用的SOIリブ導波路の設計, 作製と評価(フォトニックNW・デバイス, フォトニック結晶・ファイバとその応用, 光集積回路, 光導波路素子, 光スイッチング, 導波路解析, 及び一般)
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