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日電アネルバ(株) | 論文
- 高周波放電電極上の自己バイアス電位分布の研究
- 低圧および低温のMO-CVD法によるTiN薄膜の作製
- マルチターゲットスパッタ法による Pb(Zr,Ti)O_3 強誘電体薄膜の作製とその評価
- マルチウィンドウ型アンテナを用いた極超短波プラズマ源
- 17・4 精密機器・精巧機器 : 17. 精密・情報機械
- 真空計の種類とその応用 (真空計測)
- 真空技術 : 半導体工業における機械的基盤技術
- 脱ガス処理を施した清浄化ステンレス鋼製真空容器の排気特性
- フラッシュ脱離(FD)法の極高真空計測への応用
- 集積回路ドライプロセスの真空技術 (最近の真空技術)
- SiO2 Etching using high density plasma sources
- UHFプラズマ源の特性評価およびドライエッチングへの応用
- 帯状1ループアンテナプラズマ源のプラズマ特性
- 帯状1ループアンテナによる低圧力高密度プラズマの生成
- 29a-K-1 Si/Si_Ge_xにおけるファトルミネッセンススペクトルの圧力依存性II
- 12a-DE-9 Si/Si_Ge_Xにおけるフォトルミネッセンススペクトルの圧力依存性
- HSG形成における雰囲気の影響
- 地球温暖化PFCガス対策の進捗と展望 : CVDクリーニングRITE Pj成果展開と産学官連携による実用化の展望
- ヘリコンプラズマバイアスCVDにおける層間絶縁膜の埋設特性評価
- 多元同時スパッタリング法によるY_1Ba_2Cu_3O_y薄膜の作製