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日電アネルバ(株) | 論文
- 高真空平板マグネトロン放電の開発
- ドライエッチング装置における安全対策
- サマリー・アブストラクト
- 5. 半導体製造装置及び液晶パネル製造装置における排気系( プラズマ装置からの真空工学・排気技術IV)
- プラズマCVDにおける発光スペクトルの放電周波数による変化
- マルチチャンバ表面反応成長装置「1-2100SRE」 (特集 クォ-タミクロン時代の半導体製造装置)
- Si-MBEにおける表面欠陥の減少
- 冷陰極放電誘起発光分光法による分子線の検出
- EIES蒸発速度モニターを用いたMBE成長
- ドライエッチング装置における安全対策
- アブストラクト
- G-M冷凍機を用いたクライオポンプによるXHV実現の可能性
- 4元同時蒸着用電子ビーム蒸発源 (テトラガン) の開発
- 日本の真空工業技術の歩み(真空技術)
- 総論 (2) 産業への応用
- 3.2.3 半導体製造装置(3. 何ができたか、できつつあるか)(3.2 精密工業 : 精密技術はどのように生かされ、どのくらい精密か)
- ホトマスクとレジストパターンの関係
- 四塩化炭素および四塩化炭素・ヘリウムによるアルミニウム膜の反応性イオンエッチング加工特性
- アブストラクト
- スピニングローター真空計による電離真空計の感度校正