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広島工業大学工学部電子工学科 | 論文
- パン風景ビデオシーケンスとCG静止画像の合成
- 高周波-直流結合形マグネトロンスパッタリングにより作成したTa/ITO界面の評価
- 単一パラメータ調整が可能なLCシミュレーション形複同調回路の一構成
- トランジスタジェイレータを用いた複同調能動RC回路
- 高周波-直流結合形マグネトロンスパッタ法による Ta/Mo 薄膜の形成
- 不活性ガスを用いたプラズマソースイオン注入(PSII)法による滅菌プロセス
- 変形磁界型高周波マグネトロンスパッタ法によるNi薄膜の堆積速度
- 高周波-直流結合形マグネトロンスパッタ法によるNiターゲットを用いた放電特性と直流バイアスによるNi薄膜の堆積速度制御効果
- 高周波-直流結合形マグネトロンスパッタ法によるWN_x薄膜の作製とCu/WN_x/Si構造の拡散バリア効果
- アンバランスマグネトロンスパッタ法によるCoN_x薄膜の電気的特性および結晶構造
- RF-DC結合形低圧マグネトロンスパッタ法の開発 : 放電特性とNi薄膜の堆積速度のDC制御効果
- C-6-1 アンバランスマグネトロンスパッタ法によるCo薄膜の堆積速度
- C-6-10 RF-DC結合形マグネトロンスパッタ法を用いたWNx薄膜のDC電圧による組成制御効果
- C-6-1 水素プラズマ曝露によるITO薄膜表面のXPS評価
- 高周波-直流結合形マグネトロンスパッタ法によるSnNx薄膜の作製
- RF-DC結合形マグネトロンスパッタ法によるTiN_x/Si系における下地効果
- Ar-N_2混合ガスを用いた高周波-直流結合形マグネトロンスパッタ法による窒化マグネシウム薄膜の作製
- 高周波-直流結合形マグネトロンスパッタ法によるTiN_x/Si系の電気的特性
- RF-DC 結合形マグネトロンスパッタ法による Mg ターゲットにおける Ar-N_2 ガスの放電特性
- Auスパッタリングを用いたX線光電子分光法における導電膜/絶縁基板の測定改善