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広島工業大学工学部電子工学科 | 論文
- 高周波-直流結合形マグネトロンスパッタ法を用いたAr-N_2ガスプラズマ中のTiターゲット表面組成
- SiO_2/Si界面及びSi表面のX線光電子分光法による評価
- RF-DC結合形マグネトロンスパッタ法によるA〓Nx薄膜の組成制御
- 光導電素子を用いた液晶空間光変調素子の設計
- RF-DC結合形マグネトロンスパッタ法によるW薄膜の成長速度へのHe添加効果
- 水素プラズマ曝露によるSnO_2薄膜の還元
- 高周波アシスト直流マグネトロンスパッタ法による放電特性とTa薄膜の堆積速度
- RFバースト炭素系アフターグロー中のプラズマ密度
- 高周波-直流結合形マグネトロンスパッタ法におけるAr^+及びCu^+イオンのエネルギー分布
- 誘導結合プラズマ支援型多重磁極マグネトロンスパッタ法によるニッケル成膜時の基板電流特性
- DCマグネトロンスパッタリングにおける放電特性のターゲット材料仕事関係依存性
- サマリー・アブストラクト
- 高周波-直流結合形マグネトロンスパッタ法におけるAr^+及びCu^+イオンのエネルギー分布
- 不活性ガスを用いたプラズマソースイオン注入(PSII)法による滅菌プロセス
- 高Q多重帰還形能動RC回路とその高周波化
- 弗素化した SnO_2 薄膜の表面構造
- 真空蒸着法による透明導電膜ヨウ化銅の作成
- 水蒸気を用いたSnO_2薄膜表面改質
- 弗素化したTextured SnO_2薄膜の水素プラズマ耐性
- 透明導電膜の弗素化メカニズム