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信越半導体(株) | 論文
- CZシリコン結晶中酸素析出挙動の計算機シミュレーション : バルク成長シンポジウム
- 8"φHMCZ-Si単結晶の特性 : バルク成長シンポジウムI
- 27pA6 CZシリコン単結晶中の格子間酸素濃度のミクロ変動と平衡偏析係数(バルク結晶成長シンポジウムIII)(バルク結晶成長シンポジウム : バルク単結晶の新しい融液成長技術)
- CZシリコン結晶中の格子間酸素濃度のミクロ変動(バルク結晶の成長(I))
- HMCZシリコン単結晶中の格子間酸素濃度のミクロ変動 : 融液成長VI
- MOVPE法によるAlGaInP高輝度可視発光ダイオード
- CZシリコン中の Grown-in 欠陥が引き起こすMOSキャパシタの低電界破壊
- シリコン融液表面の直按観察 : 融液成長V
- 石英隔壁侵潰による酸素濃度への影響 : 融液成長V
- 縦磁場印加FZ(VMFZ)法によるSi単結晶中のファセット生成(III) : 融液成長VI
- 垂直磁場印加(VMFZ)法によるSi単結晶中のファセット形成 : 融液成長V
- 赤外干渉法によるCZ-Si結晶中各種欠陥の評価
- 29aA11 縦磁場印加FZ(VMFZ)法によるSi単結晶中のファセット形成(IV)(融液成長V)
- FZ法シリコン単結晶中の成長縞のエッチング法観察と電気抵抗率の関係 : 評価
- ウェーハ加工と研磨加工技術
- as-grownシリコン単結晶中のフローパターンが結晶品質に与える影響 : 融液成長V
- シリコン単結晶中のD欠陥評価法の開発と結晶育成条件との対比への応用 : シンポジウムI
- シリコン融液表面の対流直接観察(バルク成長)
- MCZ法シリコン単結晶中の成長縞に対するるつぼ回転の影響 : 融液成長IV
- 石から LSI へ : 高純度ケイ素単結晶(化学への招待)