CZシリコン結晶中酸素析出挙動の計算機シミュレーション : バルク成長シンポジウム
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概要
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We have developed a practical computer simulation technique to predict the oxygen precipitation behavior in CZ-Si crystals. Our simulation can describe well the influence of crystal thermal history and heavy boron doping on the oxygen precipitation characteristics.
- 日本結晶成長学会の論文
- 1998-07-01
著者
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竹野 博
信越半導体(株)
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速水 善範
信越半導体
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三木 克彦
信越半導体(株)半導体磯部研究所
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竹野 博
信越半導体(株)半導体磯部研究所
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相原 健
信越半導体(株)半導体磯部研究所
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相原 健
信越半導体(株)
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速水 善範
信越半導体(株)半導体磯部研究所
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