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三菱電機(株)先端総研 | 論文
- リザーバ内蔵ループ形ヒートパイプの熱特性に関する研究 : きく8号搭載展開型ラジエータの軌道上熱輸送特性(熱工学,内燃機関,動力など)
- [エネルギー・資源学会]技術賞内容紹介 使用済み家電のプラスチックマテリアルリサイクル技術の開発
- 技術試験衛星きく8号搭載展開型ラジエータの軌道上初期の熱特性 : リザーバ内蔵ループ型ヒートパイプの熱特性(究極の除熱性能を目指して)
- 日本伝熱学会技術賞を受賞して
- 2106 溝型マイクロチャンネルの熱伝達特性(G06-2 熱工学(2) 伝熱(2),21世紀地球環境革命の機械工学:人・マイクロナノ・エネルギー・環境)
- きく8号搭載展開型ラジエータの軌道上運用と1年目の動作特性
- きく8号搭載展開型ラジエータの開発
- リザーバ内蔵ループ形ヒートパイプの熱特性に関する研究 : 凝縮器冷却方法の違いが熱特性に与える影響(熱工学,内燃機関,動力など)
- リザーバ内蔵ループ形ヒートパイプの熱特性に関する研究 : 第2報,不凝縮性ガスが熱特性に及ぼす影響(熱工学,内燃機関,動力など)
- 4620 技術試験衛星VIII型搭載展開ラジエータに係わるループヒートパイプ内部不凝縮性ガス評価(G06-4 熱反応・物性値,G06 熱工学)
- リザーバ内蔵ループ形ヒートパイプの熱特性に関する研究 : 第1報,蒸発器配置と作動流体封入量が熱特性に及ぼす影響(熱工学,内燃機関,動力など)
- C1 技術試験衛星VIII型(ETS-VIII)搭載展開ラジエータ(DPR)の開発
- 超清浄シリコン表面の形成(プロセスクリーン化と新プロセス技術)
- ラジカル窒化酸化膜におけるNの深さ分布と結合状態の制御(プロセスクリーン化と新プロセス技術)
- 非酸化性雰囲気昇温されたH終端Si表面状態のXPSによる評価
- ITO/AlNiNdコンタクト形成メカニズムの解明(TFTの材料・デバイス技術・応用及び一般)
- ラジカル窒化シリコン酸窒化膜における窒素プロファイルのX線光電子分光分析による評価
- HfSiO_x薄膜のXAFSによる局所構造解析(極薄ゲート絶縁膜・シリコン界面の評価技術・解析技術)
- Dual-core-SiON技術を活用したhp65-SoC LOP向けOI-SiNゲート絶縁膜(IEDM(先端CMOSデバイス・プロセス技術))
- Dual-core-SiON 技術を活用したhp65-SoC LOP向けOI-SiNゲート絶縁膜
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