宗像 誠 | 崇城大学情報学部
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概要
関連著者
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宗像 誠
崇城大学情報学部
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宗像 誠
崇城大学
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大越 正敏
九州工業大学
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大越 正敏
九州工大 情報工
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大越 正敏
九州工業大学情報工学部
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槙 孝一郎
住友金属鉱山
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上原 裕二
富士通株式会社
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佐藤 敏郎
信州大学スピンデバイステクノロジーセンター
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佐藤 敏郎
信州大学工学部
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山沢 清人
信州大学工学部
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八木 正昭
崇城大学
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三宅 裕子
富士通
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秋江 正則
富士通
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八木 正昭
崇城大学エネルギーエレクトロニクス研究所
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山沢 清人
信大工
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今泉 良一
崇城大学
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上原 裕二
富士通
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滝澤 和孝
信州大学スピンデバイステクノロジーセンター
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宗像 誠
崇城大・エネルギーエレクトロニクス研究所
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三浦 義正
信州大
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水田 創
信州大学スピンデバイステクノロジーセンター
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中沢 政博
信州大学スピンデバイステクノロジーセンター
-
秋江 政則
富士通
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山沢 清人
信州大・工
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八木 正昭
崇城大・エネルギーエレクトロニクス研究所
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佐藤 敏郎
信州大
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三浦 義正
信州大学工学部電気電子工学科 先端磁気デバイス研究室
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山沢 清人
信州大
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薮上 信
東北学院大学
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島田 寛
東北大学大学院工学研究科
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塩川 孝泰
東北学院大
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佐藤 彰
東北学院大学
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藪上 信
東北学院大学工学部
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宮澤 安範
東栄科学産業
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青木 振一
崇城大学
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大越 正敏
九州工業大学・情報工学部
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小澤 哲也
東北学院大学
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山沢 清人
信州大学スピンデバイステクノロジーセンター
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塩川 孝泰
東北学院大学大学院工学研究科
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小澤 哲也
宮城工業高等専門学校
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小澤 哲也
東北大
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三浦 義正
信州大学スピンデバイステクノロジーセンター
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塩川 孝泰
東北学院大学工学部
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塩川 孝泰
東北学院大学 工学部 電気工学科
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佐藤 彰
科学技術庁 金属材料技術研究所
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佐藤 彰
金属材料技術研究所
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佐藤 彰
金材技研
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川崎 仁晴
佐世保工業高等専門学校電気電子工学科
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川崎 仁晴
佐世保高専,電気工学科
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島田 寛
東北大科研
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島田 寛
東北大・多元研
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佐藤 彰
ユニオンツール(株)
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吉田 栄吉
NEC トーキン(株)
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杉浦 一真
信州大
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橋本 篤典
信州大
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宗像 誠
崇城大学エネルギーエレクトロニクス研究所
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川崎 仁晴
佐世保高専
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橋本 篤典
信州大学
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杉浦 一真
信州大学
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島田 寛
東北大
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塩川 孝泰
東北学院大 工
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田原 誠
崇城大学
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佐藤 彰
金属材料技術研究所組織制御研究部
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塩川 孝泰
東北大
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野中 聡
旭川医科大学耳鼻咽喉科・頭頸部外科学講座
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野中 源一郎
九州大学薬学部
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林 達哉
旭川医科大学耳鼻咽喉科・頭頸部外科学講座
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佐藤 敏郎
信州大学
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三浦 義正
信州大学工学部
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三浦 義正
信州大学
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中山 英俊
長野工業高等専門学校
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山本 知広
信州大学工学部
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溝口 裕子
信州大学工学部
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三宅 裕子
富士通株式会社ストレージプロダクト事業本部
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秋江 正則
富士通株式会社ストレージプロダクト事業本部
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遠藤 恒雄
株式会社ルネサステクノロジシステムソリューション統括本部
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中山 英俊
長野高専
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大島 多美子
佐世保高専
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柳 邦雄
東栄科学産業
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植松 卓彦
都立ナノテクセンタ
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高 興涛
九州工業大学・情報工学部
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長家 慶尚
九州工業大学・情報工学部
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青木 振一
崇城大・エネルギーエレクトロニクス研究所
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山沢 清人
信州大学
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宗像 誠
崇城大学・エネルギーエレクトロニクス研究所
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今泉 良一
崇城大学エネルギーエレクトロニクス研究所
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渡辺 剛
九州工業大学・情報工学部
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角保 延寿
九州工業大学・情報工学部
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古野 達也
九州工業大学・情報工学部
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牛水 紘貴
崇城大学
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宗像 誠
崇城大学情報学部情報学科エネルギーエレクトロ二クス研究所
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島田 寛
崇城大学
著作論文
- Fe_Co_薄膜の結晶配向と磁気特性
- 携帯電話用CoFeB磁性薄膜方向性結合器の大振幅信号伝送特性(計測・高周波デバイス)
- 携帯電話用CoFeB磁性薄膜方向性結合器の大振幅信号伝送特性の評価
- CoFeB磁性薄膜伝送線路を用いたマイクロ波帯π型ローパスフィルタの試作
- CoFeB磁性薄膜を用いた携帯電話RF回路用方向性結合器の特性改善
- 磁性薄膜/誘電体膜積層ハイブリッド伝送線路方向性結合器の特性解析
- 携帯電話用磁性薄膜方向性結合器の基礎検討
- 携帯電話PA用インピーダンス整合器への適用を目的としたCoFeB/ポリイミドハイブリッド薄膜コプレーナ線路の低損失化
- CoFe膜の異方性磁界におけるRuおよびCu下地層の影響
- Ni/Pt4層膜における垂直磁気異方性(薄膜・微粒子・多層膜・人工格子)
- カルーセルスパッタ法で作製したCoFeB膜とCoFeSm膜の異方性入射効果
- カルーセルスパッタ法で作製したCoFe膜における高異方性磁界と結晶配向
- カルーセルスパッタ法で作製したCoFeB膜におけるスパッタ粒子の異方性入射効果
- スパッタ粒子堆積シュミレーションによるCoFeB膜の異方性磁界の検討
- 一軸磁気異方性CoFeB薄膜の磁壁移動特性(薄膜・微粒子・多層膜・人工格子)
- Bを添加したCoFe膜の異方性磁界におけるRu下地層の効果
- カルーセルスパッタ法における異方性入射粒子の形成と堆積に及ぼす下地層の影響
- GHzナノテクノロジーに関するCoFeB-SiO2グラニュラー磁性薄膜材料の開発
- ミアンダ形プローブを用いた10.6GHzまでの薄膜透磁率計測
- カルーセルスパッタ法で作製したCoFe系GHz帯磁性薄膜の異方性入射効果と原子配列
- マイクロストリップ型プローブによる薄膜透磁率計測の広帯域化
- マイクロストリッププローブによる表皮効果を利用した薄膜透磁率計測