大越 正敏 | 九州工業大学
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概要
関連著者
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大越 正敏
九州工業大学
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大越 正敏
九州工業大学情報工学部
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大越 正敏
九州工大 情報工
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宗像 誠
崇城大学
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宗像 誠
崇城大学情報学部
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槙 孝一郎
住友金属鉱山
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今泉 良一
崇城大学
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青木 振一
崇城大学
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大越 正敏
九州工業大学・情報工学部
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川崎 仁晴
佐世保工業高等専門学校電気電子工学科
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川崎 仁晴
佐世保高専,電気工学科
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宗像 誠
崇城大学エネルギーエレクトロニクス研究所
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川崎 仁晴
佐世保高専
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渡邊 一弘
九州工業大学
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高 興涛
九州工業大学・情報工学部
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今泉 良一
崇城大学エネルギーエレクトロニクス研究所
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安藤 功兒
電子技術総合研究所
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対馬 国郎
九州情報大学
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川野 健一
九州工大
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渡辺 直寛
群馬高専
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樋口 健作
九州工大
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川野 健一
九州工業大学 情報工学部
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渡辺 一弘
九州工業大学 情報工学部
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樋口 健作
九州工業大学 情報工学部
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渡辺 直寛
九州工業大学 情報工学部
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対馬 国郎
九州工業大学 情報工学部
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大越 正敏
九州工大
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長家 慶尚
九州工業大学・情報工学部
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青木 振一
崇城大・エネルギーエレクトロニクス研究所
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宗像 誠
崇城大・エネルギーエレクトロニクス研究所
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太田尾 寿
九州工業大学情報工学部
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棚原 学
九州工業大学情報工学部
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山本 伸矢
九州工業大学情報工学部
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田原 誠
崇城大学
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井上 健太
九州工業大学・情報工学部
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井上 健太
九州工業大学情報工学部
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野中 聡
旭川医科大学耳鼻咽喉科・頭頸部外科学講座
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野中 源一郎
九州大学薬学部
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林 達哉
旭川医科大学耳鼻咽喉科・頭頸部外科学講座
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安藤 功兒
電総研
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安藤 功見
電子技術総合研究所
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橋本 譲
九州工業大学・情報工学部
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大島 多美子
佐世保高専
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バジム ザエツ
キエフ大学
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ザエツ バジム
キエフ大学
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植松 卓彦
都立ナノテクセンタ
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大越 正敏
九工大 情報工
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田頭 幸造
九工大
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坂上 敦洋
九工大
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田頭 幸造
九州工業大学情報工学部
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坂上 敦洋
九州工業大学情報工学部
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友枝 哲
九州工業大学情報工学部
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吉武 剛
九州工業大学情報工学部
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米徳 昌泰
九州工業大学情報工学部
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宗像 誠
崇城大学・エネルギーエレクトロニクス研究所
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ZAETS W.
産総研
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Zaets W.
電総研 キエフ大学
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青木 振一
崇城大学エネルギーエレクトロニクス研究所
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渡辺 剛
九州工業大学・情報工学部
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角保 延寿
九州工業大学・情報工学部
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古野 達也
九州工業大学・情報工学部
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牛水 紘貴
崇城大学
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牧内 孝志
九州工業大学情報工学部
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前田 賢司
九州工業大学情報工学部
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相撲 健史
九州工業大学情報工学部
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安藤 功児
電総研
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高茂 良平
九州工業大学・情報工学部
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谷口 明陽
九州工業大学・情報工学部
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渡邉 一弘
九工大
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ZAETS W.
電総研, キエフ大学
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窪山 弘信
九州工業大学情報工学部
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古澤 秀一
九州工業大学情報工学部
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安藤 功兒
産業技術総合研 エレクトロニクス研究部門
著作論文
- Fe_Co_薄膜の結晶配向と磁気特性
- Cd_Mn_χTe薄膜光導波路の光学損失
- レーザーアブレーション法による(Gd, Bi)_3Fe_5O_薄膜の作成
- レーザーアブレーション法による(Gd, Bi)_3Fe_5O_薄膜の磁気光学効果
- CoFe膜の異方性磁界におけるRuおよびCu下地層の影響
- Ni/Pt4層膜における垂直磁気異方性(薄膜・微粒子・多層膜・人工格子)
- Ni/Pt 4層膜における垂直磁気異方性
- 数原子層厚で積層したCo/Cu膜の構造と一方向異方性
- レーザーアブレーションとスパッタリングを併用して作製したCo/Cu膜の構造と磁性
- レーザーアブレーションによるFe-N薄膜の構造と磁気特性
- カルーセルスパッタ法で作製したCoFeB膜とCoFeSm膜の異方性入射効果
- カルーセルスパッタ法で作製した高異方性磁界を持つCoFeB膜におけるスパッタ粒子の異方性入射効果
- カルーセルスパッタ法で作製したCoFe膜における高異方性磁界と結晶配向
- カルーセルスパッタ法で作製したCoFeB膜におけるスパッタ粒子の異方性入射効果
- スパッタ粒子堆積シュミレーションによるCoFeB膜の異方性磁界の検討
- 一軸磁気異方性CoFeB薄膜の磁壁移動特性(薄膜・微粒子・多層膜・人工格子)
- Bを添加したCoFe膜の異方性磁界におけるRu下地層の効果
- レーザーアブレーション法で作製したNi-Fe細線の磁気特性(薄膜)
- 微小バブル磁区の生成と回復過程
- Cd_Mn_XTe薄膜光導波路の光学損失
- 微小バブルの発生条件と安定性(磁性体物理)
- カルーセルスパッタ法で作製したCoFe系GHz帯磁性薄膜の異方性入射効果と原子配列
- カルーセルスパッタ法における異方性入射粒子の形成と堆積に及ぼす下地層の影響
- カルーセルスパッタ法で作製したCoFe系GHz帯磁性薄膜の異方性入射効果と原子配列