レーザーアブレーション法による(Gd, Bi)_3Fe_5O_<12>薄膜の磁気光学効果
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概要
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- 1995-09-01
著者
-
対馬 国郎
九州情報大学
-
渡邊 一弘
九州工業大学
-
大越 正敏
九州工業大学
-
川野 健一
九州工大
-
渡辺 直寛
群馬高専
-
樋口 健作
九州工大
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川野 健一
九州工業大学 情報工学部
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渡辺 一弘
九州工業大学 情報工学部
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樋口 健作
九州工業大学 情報工学部
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渡辺 直寛
九州工業大学 情報工学部
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対馬 国郎
九州工業大学 情報工学部
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大越 正敏
九州工大 情報工
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大越 正敏
九州工業大学情報工学部
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