数原子層厚で積層したCo/Cu膜の一方向異方性
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概要
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- 1998-09-01
著者
-
大越 正敏
九州工大 情報工
-
大越 正敏
九州工業大学情報工学部
-
大越 正敏
九工大・情報工
-
田頭 幸造
九工大
-
坂上 敦洋
九工大
-
友枝 哲
九州工業大学情報工学部
-
太田尾 寿
九州工業大学情報工学部
-
田頭 幸造
九工大・情報工
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坂上 敦洋
九工大・情報工
-
友枝 哲
九工大・情報工
-
太田尾 寿
九工大・情報工
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