PLD法による(Gd, Bi)_3Fe_5O_<12>薄膜の作成と評価

スポンサーリンク

概要

• 論文の詳細を見る
• 1996-09-01

著者

• 対馬 国郎

  九州情報大学

• 川野 健一

  九州工大

• 渡辺 直寛

  群馬高専

• 樋口 健作

  九州工大

• 対馬 国郎

  麻生福岡短期大学

関連論文

• PLD法による(Gd, Bi)_3Fe_5O_薄膜の作成と評価
• レーザーアブレーション法による(Gd, Bi)_3Fe_5O_薄膜の作成
• レーザーアブレーション法による(Gd, Bi)_3Fe_5O_薄膜の磁気光学効果
• 30a-APS-35 レーザーアブレーション法により作成した鉄薄膜の磁気光学的評価
• Bi系酸化物高温超伝導体に於けるホール効果の一軸圧依存性
• Bi_2Sr_2CaCu_2O_単結晶臨界温度の圧力依存性
• PLD法により作成した(Gd, Bi)_3Fe_5O_薄膜の表面観察
• Bi系酸化物超伝導体におけるホール効果の一軸圧依存性II.

スポンサーリンク