秋永 広幸 | アトムテクノロジー研究体・産業技術総合研究所ナノテクノロジー研究部門

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概要

• 同名の論文著者
• アトムテクノロジー研究体・産業技術総合研究所ナノテクノロジー研究部門の論文著者

関連著者

• 秋永 広幸

  アトムテクノロジー研究体・産業技術総合研究所ナノテクノロジー研究部門

• 秋永 広幸

  アトムテクノロジー研究体:産業技術総合研究所 & 東大物性研

• 水口 将輝

  東北大学

• 尾嶋 正治

  東京大学大学院工学系研究科応用化学専攻

• 小野 寛太

  東京大学大学院工学系研究科

• 小野 寛太

  総研大・高エ研

• 尾嶋 正治

  東京大学大学院工学系研究科

• 水口 将輝

  アトムテクノロジー研究体-産業技術融合領域研究所

• 秋永 広幸

  産業技術総合研究所

• 尾嶋 正治

  東大院工

• 秋永 広幸

  JRCAT

• 水口 将輝

  ナノ機能合成プロ産総研

• 水口 将輝

  東京大学大学院工学系研究科応用化学専攻

• 秋永 広幸

  産総研

• 水口 将輝

  JRCAT

• 小野 寛太

  東大院工

• 秋永 広幸

  産総研ナノテク

• 白井 正文

  東北大通研

• 水口 将輝

  東北大金研

• 眞砂 卓史

  JRCAT

• 眞砂 卓史

  アトムテクノロジー研究体産業技術総合研究所つくば中央第4事業所

• 白井 正文

  大阪大学大学院基礎工学系研究科

• 水口 将輝

  東北大学金属材料研究所

• 眞砂 卓史

  Jrcat:オングストロームテクノロジ研究機構

• 秋永 広幸

  産業技術総合研

• Shirai M

  Kyoto Univ. Kyoto

• Shirai Masafumi

  Department Of Material Physics Osaka University

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著作論文

• 金属/半導体ハイブリッド超薄膜で出現した超巨大磁気抵抗効果-磁気抵抗スイッチ効果-
• 完全スピン偏極強磁性体CrAsの物質設計および合成 : 合金薄膜
• MnSb:GaAsグラニュラー薄膜の室温光誘起巨大磁気抵抗効果
• GaAs/MnSbグラニュラー構造における磁気抵抗スイッチ効果
• MnSbグラニュラー薄膜の作製と磁気光学特性
• MnSbグラニュラー構造における室温超巨大磁気抵抗効果
• 金属/半導体グラニュラー構造における磁気抵抗スイッチ効果

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