三宅 秀治 | エルピーダメモリ(株) Technology & Development Office Research & Development Group
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概要
関連著者
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三宅 秀治
エルピーダメモリ株式会社
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三宅 秀治
エルピーダメモリ(株) Technology & Development Office Research & Development Group
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三宅 秀治
エルピーダメモリ株式会社 T&d Office Apd Gr.
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宮崎 誠一
広島大学大学院 先端物質科学研究科
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大田 晃生
広島大学大学院先端物質科学研究科
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村上 秀樹
広島大学大学院先端物質科学研究科
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中川 博
広島大学大学院先端物質科学研究科
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中島 安理
広島大学ナノデバイス・システム研究センター
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ZHU Shiyang
広島大学ナノデバイス・システム研究センター
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大橋 拓夫
エルピーダメモリ株式会社
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古川 寛章
広島大学大学院 先端物質科学研究科
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多比良 昌弘
広島大学大学院 先端物質科学研究科
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米田 賢司
エルピーダメモリ株式会社 T&D Office, APD Gr.
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堀川 貢弘
エルピーダメモリ株式会社 T&D Office, APD Gr.
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小山 邦明
エルピーダメモリ株式会社 T&D Office, APD Gr.
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宮崎 誠一
広島大学大学院先端物質科学研究科
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堀川 貢弘
エルピーダメモリ株式会社 T&d Office Apd Gr.
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小山 邦明
エルピーダメモリ株式会社 T&d Office Apd Gr.
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村上 秀樹
Department Of Orthopaedic Surgery Kanazawa University School Of Medicine
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宮崎 誠一
広島大学大学院
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米田 賢司
エルピーダメモリ株式会社 T&d Office Apd Gr.
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村上 秀樹
広島大学大学院 先端物質科学研究科
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大田 晃生
広島大学大学院 先端物質科学研究科
著作論文
- ダイナミック酸化膜電界ストレス下でのチャージポンピング電流に起因する界面トラップ形成(ゲート絶縁膜, 容量膜, 機能膜及びメモリ技術)
- 光電子分光法によるAl_2O_3/SiN_x/poly-Siスタック構造における界面反応評価(ゲート絶縁膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)
- 先端DRAMとポストDRAM