三宅 秀治 | エルピーダメモリ株式会社 T&d Office Apd Gr.

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概要

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関連著者

• 三宅 秀治

  エルピーダメモリ株式会社

• 三宅 秀治

  エルピーダメモリ株式会社 T&d Office Apd Gr.

• 三宅 秀治

  エルピーダメモリ(株) Technology & Development Office Research & Development Group

• 宮崎 誠一

  広島大学大学院 先端物質科学研究科

• 大田 晃生

  広島大学大学院先端物質科学研究科

• 村上 秀樹

  広島大学大学院先端物質科学研究科

• 中川 博

  広島大学大学院先端物質科学研究科

• 中島 安理

  広島大学ナノデバイス・システム研究センター

• ZHU Shiyang

  広島大学ナノデバイス・システム研究センター

• 大橋 拓夫

  エルピーダメモリ株式会社

• 古川 寛章

  広島大学大学院 先端物質科学研究科

• 多比良 昌弘

  広島大学大学院 先端物質科学研究科

• 米田 賢司

  エルピーダメモリ株式会社 T&D Office, APD Gr.

• 堀川 貢弘

  エルピーダメモリ株式会社 T&D Office, APD Gr.

• 小山 邦明

  エルピーダメモリ株式会社 T&D Office, APD Gr.

• 宮崎 誠一

  広島大学大学院先端物質科学研究科

• 堀川 貢弘

  エルピーダメモリ株式会社 T&d Office Apd Gr.

• 小山 邦明

  エルピーダメモリ株式会社 T&d Office Apd Gr.

• 村上 秀樹

  Department Of Orthopaedic Surgery Kanazawa University School Of Medicine

• 宮崎 誠一

  広島大学大学院

• 米田 賢司

  エルピーダメモリ株式会社 T&d Office Apd Gr.

• 村上 秀樹

  広島大学大学院 先端物質科学研究科

• 大田 晃生

  広島大学大学院 先端物質科学研究科

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著作論文

• ダイナミック酸化膜電界ストレス下でのチャージポンピング電流に起因する界面トラップ形成(ゲート絶縁膜, 容量膜, 機能膜及びメモリ技術)
• 光電子分光法によるAl_2O_3/SiN_x/poly-Siスタック構造における界面反応評価(ゲート絶縁膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)

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