国井 泰夫 | NTTLSI研究所

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  NTTLSI研究所

• 国井 秦夫

  Ntt物性科学基礎研究所

• 泉 勝俊

  NTTシステムエレクトロニクス研究所

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著作論文

• 高温水素雰囲気中のSIM0X基板表面平坦化過程
• 緩衝弗酸によるCVD酸化膜のエッチング機構
• 単結晶シリコン表面/界面の制御技術
• 薄層SOI基板における酸化誘起積層欠陥の収縮過程
• 絶縁膜のウェットエッチング

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