前田 正彦 | Nttlsi研究所

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概要

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関連著者

• 前田 正彦

  Nttlsi研究所

• 中山 諭

  Nttシステムエレクトロニクス研究所

• 中山 諭

  NTT LSI研究所

• IKEDA Koichi

  NTT LSI Laboratories

• 国井 泰夫

  NTTLSI研究所

• 中山 諭

  NTTLSI研究所

• 池田 浩一

  NTT LSI研究所

• 前田 正彦

  NTT LSI研究所

• 国井 秦夫

  Ntt物性科学基礎研究所

• 橋本 千里

  Ntt Lsi研

• 池田 浩一

  Ntt Lsi Laboratories

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著作論文

• 高誘電率絶縁材料 (超LSI用絶縁膜)
• 緩衝弗酸によるCVD酸化膜のエッチング機構
• TEOS/O_3常圧CVD法によるシリコン酸化膜の成膜過程

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