坂上 正和 | 北見工業大学電気電子工学科

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概要

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• 同名の論文著者
• 北見工業大学電気電子工学科の論文著者

関連著者

• 武山 真弓

  北見工業大学電気電子工学科

• 野矢 厚

  北見工業大学工学部電気電子工学科

• 野矢 厚

  北見工業大学電気電子工学科

• 坂上 正和

  北見工業大学電気電子工学科

• 武山 真弓

  北見工業大学

• 野矢 厚

  北見工業大学

• 糸井 貴臣

  北見工業大学電気電子工学科:(現)千葉大学

• 佐藤 和美

  北見工業大学電気電子工学科:(現)(株)日立国際電気

• 武山 真弓

  北見工業大学工学部電気電子工学科

著作論文

• Cu/VN/SiO_2/Si構造におけるナノクリスタルVNバリヤの有用性
• Cu/SiO_2間に介在させたV-N膜の界面反応と拡散挙動
• Cu/SiO_2間におけるNb-Nバリヤ層の適用
• SiO_2上のCu配線におけるNb介在層の適用

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