青砥 なほみ | Nec Ulsiデバイス開研

スポンサーリンク

概要

• 青砥 なほみの詳細を見る
• 同名の論文著者
• Nec Ulsiデバイス開研の論文著者

関連著者

• 青砥 なほみ

  Nec Ulsiデバイス開研

• 青砥 なほみ

  NEC ULSIデバイス開発研究所

• 青木 秀充

  Nec Ulsiデバイス開発研究所

• 五十嵐 信行

  NECシリコンシステム研究所

• 寺岡 有殿

  日本電気(株)マイクロエレクトニクス研究所

• 石田 宏一

  Necシリコンシステム研究所

• 五十嵐 信行

  Necマイクロエレクトロニクス研

• 山崎 進也

  NEC ULSIデバイス開発研究所

• 和氣 智子

  NEC ULSIデバイス開発研究所

• 山本 賢一

  NEC資源環境技術研究所

• 長谷 潮

  NEC資源環境技術研究所

• 辻 幹生

  NECデバイス分析評価技術センター

• 西山 岩男

  日本電気(株)マイクロエレクトニクス研究所

• 中森 雅治

  NEC ULSIデバイス開発研究所

• 石田 宏一

  NEC ULSIデバイス開発研究所

• 寺岡 有殿

  NECマイクロエレクトロニクス研究所

• 西山 岩男

  NECマイクロエレクトロニクス研究所

• 長谷 潮

  Nec環境技術研究所

もっと見る 閉じる

著作論文

• 微細構造内の金属汚染・イオン汚染分析 (特集:微細構造内の分析・観察技術)
• W及びTiの洗浄液中での溶解と再付着の検討
• DHF溶液中におけるSi基板表面のゼータ電位
• 微細コンタクトホール底Si表面自然酸化膜の制御
• デバイス製造プロセスと洗浄・クリーン化技術

スポンサーリンク