青木 秀充 | Nec Ulsiデバイス開発研究所

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概要

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• Nec Ulsiデバイス開発研究所の論文著者

関連著者

• 青木 秀充

  Nec Ulsiデバイス開発研究所

• 山崎 進也

  NEC ULSIデバイス開発研究所

• 青砥 なほみ

  Nec Ulsiデバイス開研

• 青砥 なほみ

  NEC ULSIデバイス開発研究所

• 和氣 智子

  NEC ULSIデバイス開発研究所

• 山本 賢一

  NEC資源環境技術研究所

• 長谷 潮

  NEC資源環境技術研究所

• 辻 幹生

  NECデバイス分析評価技術センター

• 長谷 潮

  Nec環境技術研究所

著作論文

• Cu-CMP後洗浄技術 (半導体デバイス特集) -- (基盤技術)
• 微細構造内の金属汚染・イオン汚染分析 (特集:微細構造内の分析・観察技術)
• メタル/Low K-CMP後洗浄技術
• W及びTiの洗浄液中での溶解と再付着の検討
• DHF溶液中におけるSi基板表面のゼータ電位

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