DHF溶液中におけるSi基板表面のゼータ電位
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概要
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ウエット処理、特にHF系溶液による処理では粒子の付着が問題となる。溶液中におけるSi表面への粒子付着機構を解明する手段として、ゼータ電位測定が利用されている。今回、Si基板の表面ゼータ電位をDHF中で直接評価し、従来測定法と異なる知見を得るとともに、従来法との相違が生じる理由について表面電荷密度の観点から考察した。また、Si基板の表面ゼータ電位を用いて、DHF溶液に界面活性剤を添加した場合の表面ゼータ電位の変化について調べた結果も報告する。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1996-11-14
著者
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