微細構造内の金属汚染・イオン汚染分析 (特集:微細構造内の分析・観察技術)

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概要

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• 半導体基盤技術研究会の論文

著者

• 青木 秀充

  Nec Ulsiデバイス開発研究所

• 山崎 進也

  NEC ULSIデバイス開発研究所

• 青砥 なほみ

  Nec Ulsiデバイス開研

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