莇 丈史 | 日本電気
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概要
関連著者
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莇 丈史
日本電気
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日比谷 孟俊
東工大
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中村 新
日本電気(株)基礎研究所
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莇 丈史
NEC基礎研
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日比谷 孟俊
NEC基礎研
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角地 雅信
東工大
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江口 実
Nec
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中村 新
NEC基礎研究所
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江口 実
NEC基礎研究所
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日比谷 孟俊
日本電気株式会社 研究開発グループ主席研究員
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日比谷 孟俊
日本電気株式会社基礎研究所
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莇 丈史
日本電気株式会社基礎研究所
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日比谷 孟俊
東工大大学院総合理工学研究科
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日比谷 孟俊
東京都立科学技術大学工学部
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莇 丈史
NECグリーンイノベーション研究所
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中村 新
Fundamental Research Laboratories, NEC Corporation
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日比谷 孟俊
東京都立科学技術大学
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中村 新
NEC 基礎研究所
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中村 新
日本電気株式会社基礎研究所
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日比谷 孟俊
Nec
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日比谷 孟俊
都立科技大工
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井上 俊明
東工大院
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角地 雅信
東京工業大学総合理工学研究科
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日比谷 孟俊
東京都科技大
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莇 丈史
日本電気(株)基礎研究所
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莇 丈史
Fundamental Research Labs., NEC Corporation
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角地 雅信
東工大院
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日比谷 孟俊
都立科技大
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中村 新
Fundamental Research Laboratories Nec Corporation
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向井 楠宏
九工大工学部
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松井 捷明
日本電気株式会社宇宙開発事業部
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向井 楠宏
九工大
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平尾 昭博
Nec-東芝スペースシステム
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向井 楠宏
九州工大・工
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川口 聡
有人宇宙システム株式会社
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松井 棲明
Nec-東芝スペースシステム
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日比谷 孟俊
東京工業大学総合理工学研究科
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榎戸 一典
有人宇宙システム株式会社
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松井 捷明
NEC-東芝スペースシステム
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平 博仁
宇宙環境利用推進センター
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江口 実
NEC R&Dサポート
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角地 雅信
東工大大学院総合理工学研究科
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日比谷 孟俊
Fundamental Research Laboratories, NEC Corporation
著作論文
- 酸素分圧によるシリコン融液の表面張力制御の限界 : バルク結晶成長III
- 宇宙ステーション搭載用帯域炉(AFEX)エックス線画像に対する画像強調処理が画質に及ぼす効果
- イメージ炉を用いた水平シリコン融液マランゴニ対流観察実験の検討
- シリコン融液におけるマランゴ二対流の不安定性と雰囲気酸素分圧効果(微小重力環境を利用した結晶成長)
- B312 溶融半導体シリコンにおけるマランゴ二対流の不安定性
- F206 CZ-Siメルト表面のスポークパターン形成における表面張力起因対流の役割(オーガナイズドセッション17 : 材料およびデバイス製造の熱工学)
- CZ-Siメルト表面のネットワークパターン形成における表面張力起因対流の役割
- シリコン融液のマランゴニ対流:微小重力実験と結晶成長
- シリコン液柱における振動マランゴニ流の非接触温度測定
- シリコン融液のマランゴニ対流に及ぼす雰囲気酸素分圧の効果
- マランゴニ温度振動に起因する固液界面振動の観察 : バルク成長III
- シリコンメルト表面におけるベナールセルの観測
- 航空機による微小重力環境を利用したSiメルト液柱におけるマランゴニ対流に及ぼす雰囲気酸素の効果
- 24aB2 浅いシリコンメルト表面における温度変動(バルク成長VII)
- シリコンメルト表面の非接触温度測定
- マランゴニ対流に起因するシリコン液柱内部の温度振動 ; アスペクト比の比較
- マランゴニ対流に起因するSi液柱内部の温度振動に対する液柱高さの寄与
- シリコン結晶成長に及ぼす雰囲気酸素分圧の効果