日比谷 孟俊 | 都立科技大

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概要

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• 日比谷 孟俊

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• 日比谷 孟俊

  都立科技大工

• 日比谷 孟俊

  ウィーン工科大学熱流体力学研究所

• 日比谷 孟俊

  首都大学東京

• 白鳥 英

  首都大学東京

• 白鳥 英

  都立科技大院

• 莇 丈史

  日本電気

• 角地 雅信

  東工大

• 山根 規義

  都立科技大院

• 山根 規義

  都科技大工

• 渡邉 匡人

  学習院大学理学部

• 渡邉 匡人

  学習院大理

• 福山 博之

  東北大多元研

• 中村 新

  Fundamental Research Laboratories, NEC Corporation

• 渡邉 匡人

  学習院大学理学部物理学科

• 佐藤 伸秀

  都立科技大

• 中村 新

  日本電気(株)基礎研究所

• 福山 博之

  東北大

• 永渕 圭介

  都科技大工

• 河村 啓史

  東工大院

• 日比谷 孟俊

  東京都科技大

• 莇 丈史

  Fundamental Research Labs., NEC Corporation

• 中村 新

  Fundamental Research Laboratories Nec Corporation

• 永渕 圭介

  都立科技大院

• 大久保 直也

  都立科技大院

• 大久保 直也

  都科技大工

• 浅井 義彦

  都立科技大

• Kuhlmann Hendrick

  ウィーン工科大

• 小島 俊哉

  都立科技大

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  ウィーン工科大

• 日比谷 孟俊

  東工大

• 大久保 英和

  都立科技大

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著作論文

• 過冷却シリコンの重直分光放射率とその熱放射機構
• 酸素分圧によるシリコン融液の表面張力制御の限界 : バルク結晶成長III
• B312 溶融半導体シリコンにおけるマランゴ二対流の不安定性
• シリコン液柱における高Ma数振動マランゴニ対流不安定性の周方向対称性
• 5041 ハーフゾーン液柱内温度差マランゴニ対流の線形安定性における自由表面局在化の効果(J09-2 熱流体輸送および反応流の実験的及び数値的解析(2),J09 熱流体輸送および反応流の実験的及び数値的解析)
• 赤外線イメージ炉を用いたシリコン単結晶育成と成長縞に及ぼす雰囲気酸素分圧効果(半導体結晶成長III)
• 自由表面を局在化したハーフゾーンにおける温度差マランゴニ対流の不安定性メカニズム
• シリコン融液柱におけるマランゴニ対流不安定性モードのTime Evolution(半導体結晶成長III)

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