角地 雅信 | 東工大

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概要

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関連著者

• 角地 雅信

  東工大

• 日比谷 孟俊

  東工大

• 中村 新

  日本電気(株)基礎研究所

• 莇 丈史

  日本電気

• 角地 雅信

  東京工業大学総合理工学研究科

• 莇 丈史

  NEC基礎研

• 日比谷 孟俊

  東工大大学院総合理工学研究科

• 小沼 一雄

  物質工学工業技術研究所無機材料部

• 小沼 一雄

  物質工学工業技術研究所

• 日比谷 孟俊

  都立科技大工

• 井上 俊明

  東工大院

• 中村 新

  日本電気基礎研究所

• 日比谷 孟俊

  東京工業大学総合理工学研究科

• 莇 丈史

  日本電気(株)基礎研究所

• 角地 雅信

  東工大院

• 日比谷 孟俊

  都立科技大

• 日比谷 孟俊

  東京都立科学技術大学工学部

• 中村 新

  Fundamental Research Laboratories, NEC Corporation

• 日比谷 孟俊

  東京都立科学技術大学

• 中村 新

  NEC基礎研究所

• 日比谷 孟俊

  日本電気基礎研究所

• 莇 丈史

  Fundamental Research Labs., NEC Corporation

• 中村 新

  日本電気 (株) システムデバイス・基礎研究本部

• 日比谷 孟俊

  日本電気 (株) システムデバイス・基礎研究本部

• 角地 雅信

  東工大大学院総合理工学研究科

• 中村 新

  Fundamental Research Laboratories Nec Corporation

• 浅井 義彦

  都立科技大

• 小島 俊哉

  都立科技大

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著作論文

• シリコン融液表面におけるマランゴニ対流の光学的観察
• 位相シフト干渉法を用いたシリコン融液表面におけるマランゴニ振動の観察
• シリコン融液におけるマランゴ二対流の不安定性と雰囲気酸素分圧効果(微小重力環境を利用した結晶成長)
• B312 溶融半導体シリコンにおけるマランゴ二対流の不安定性
• 振動マランゴニ対流に起因するシリコン液柱固液界面振動の2方向観察
• マランゴニ温度振動に起因する固液界面振動の観察 : バルク成長III
• マランゴニ対流に起因するシリコン液柱内部の温度振動 ; アスペクト比の比較
• マランゴニ対流に起因するSi液柱内部の温度振動に対する液柱高さの寄与
• シリコン結晶成長に及ぼす雰囲気酸素分圧の効果
• 赤外線イメージ炉を用いたシリコン単結晶育成と成長縞に及ぼす雰囲気酸素分圧効果(半導体結晶成長III)

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