Kamada Takeshi | Central Research Laboratories Matsushita Electric Industrial Co. Lid.

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概要

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著作論文

732 トンネル内の局所的温度変化によるパルス音の伝播・放射特性への影響(噴流・圧縮性流れ・音響)
1203 局所高温度領域をもつトンネルにおける音の伝播・放射(OS12-1 トンネルの空気力学、換気、火災(高速鉄道),OS12 トンネルの空気力学、換気、火災,オーガナイズドセッション)
253 トンネル内の高温度領域によるパルス音放射特性への影響(G05-4 流体騒音,G05 流体工学)
717 ダクト内高温度領域付加によるパルス音の放射特性への影響(流体音響・超音速流,学術講演)
Low-Temperature Preparation of Pb(Zr,Ti)O_3 Thin Filmson (Pb,La)TiO_3 Buffer Layer by Multi-Jon-Beam Sputtering
Preparation of La-Modified Lead Titanate Thin Films by Rf-Magnetron Sputtering Method and Their Pyroelectric Properties
Preparation of Pyroelectric Pb_La_xTi_O_3 Thin Films from Ceramic Target by RF Magnetron Sputtering
Characterization of Pb(Zr, Ti)O_3 Thin Films Prepared by Multi-Ion-Beam Sputtering
Substrate Potential Effects on Low-Temperature Preparation of SrTiO_3 Thin Films by RF Magnetron Sputtering
Ferroelectric PbTiO_3 Thin Films Prepared by Multi-Ion-Beam Sputter and Ion-Assisted Deposition
Characteristics of Superconducting Gd-Ba-Cu-O Thin Films
Plasma Irradiation Effects on Nd-Ce-Cu-O and La-Sr-Cu-O Thin Films
Effects of Deposition Method on the Properties of Silicon Nitride and Silicon Oxynitride Films : Surfaces, Interfaces and Films
The Orthorhombic-to-Tetragonal Phase Transition in Sputtered Gd-Ba-Cu-O Thin Films by Low Temperature Processing : Electrical Properties of Condensed Matter
Thermal Stability of Hydrogen in Silicon Nitride Films Prepared by ECR Plasma CVD method : Surfaces, Interfaces and Films
Properties of Silicon Oxynitride Films Prepared by ECR Plasma CVD Method : Surfaces, Interfaces and Films
Hydrogen Concentration and Bond Configurations in Silicon Nitride Films Prepared by ECR Plasma CVD Method
30aUD-11 Upgraded 2d phase contrast imaging system for characterization of spatial profiles of low and high k turbulence on LHD
Bifurcation of Heat Transport in High Temperature Plasma(Gases, plasmas, electric discharges, and beams)
Strong-Coupling Superconductivity in Noncentrosymmetric Superconductor Li_2Pd_3B by Sub-meV Photoemission Spectroscopy(Condensed matter: electronic structure and electrical, magnetic, and optical properties)
105 生分解性でんぷんプラスティックスの衝撃特性(OS3-2,OS3 実験力学と可視化技術,学術講演)
回転を伴う円板の衝突反発現象
104 回転を伴う円板の衝突反発現象(OS3-2,OS3 実験力学と可視化技術,学術講演)
Hydrothermal Synthesis and Magnetic Properties of Zinc Ferrite Nanocrystals
Thermoelectric Properties of Amorphous Zinc Oxide Thin Films Fabricated by Pulsed Laser Deposition
球状粒子群への球状飛翔体の貫入および跳ね返り(粉体物理の現状と展望,2006年度後期基礎物理学研究所研究会)
304 離散要素法シミュレーションによる粉粒体のクレーター形成の解析(OS4-1 技術革新に向けた新しい材料力学)
Influence of Deposition Conditions on the Properties of Silicon Nitride Films Prepared by the ECR Plasma CVD Method
322 生分解性プラスティックスの圧縮特性に及ぼす吸水の影響(OS3-1,OS3 新材料の機能と強度)
Second-Harmonic Generation in Optically Poled WO3-TeO2 Glasses Doped with Vanadium and Rare-Earth Elements (特集光機能材料)
S0404-2-3 衝撃圧縮時の生分解性プラスチックの温度変化(衝撃問題の新たなる展開と応用(2))
石油系生分解性プラスチックの圧縮特性に及ぼすひずみ速度および温度の影響
1545 でんぷん系生分解性プラスチックの動的圧縮特性に与える温度の影響(S11-4 バイオマス由来材料の成形加工と特性評価(4)生分解性プラスチックの成形性と機械的性質,21世紀地球環境革命の機械工学:人・マイクロナノ・エネルギー・環境)
二次元規則配列された粒子群への飛しょう体の衝突 : 層数および異材層の影響
アルミニウムハニカムの面内変形機構におけるひずみ速度の影響と2-スケールひずみの関係
303 高速衝突によるアルミニウム合金のクレーター生成(OS4-1 技術革新に向けた新しい材料力学)
1763 異種粒子層を含む二次元粒子集合体への鋼球衝突の離散要素法シミュレーション(G03-4 衝突・衝撃解析,G03 材料力学)
ホプキンソン棒を用いた生分解性でんぷんプラスティックスの動的圧縮特性の評価
Possibility of High T_c Superconducting Thin Films in Magnetic Application : Electrical Properties of Condensed Matter
Preparation and Characterization of Supereonducting Y-Ba-Cu-O Thin Films
ランダム充填した粒子集合体に対する飛翔体の衝突現象
鋼球飛しょう体衝突を受ける粒子集合体の観察(S19-1 混相流の多次元ビジュアリゼーション(固気・固液), S19 混相流の多次元ビジュアリゼーション)
Structure and Properties of Silicon Titanium Oxide Films Prepared by Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition Method
OS0910 石油系生分解性樹脂の動的圧縮特性に与える温度の影響(OS09-03 材料・構造の衝撃問題3,OS09材料・構造の衝撃問題(2))
723 デンプン由来生分解性プラスチックの衝撃圧縮時の温度上昇(機能性材料の衝撃問題,材料・構造の衝撃問題,オーガナイスドセッション9)
313 でんぷんベース樹脂の衝撃圧縮特性(材料の衝撃特性,材料・構造の衝撃問題,オーガナイスドセッション9)
Bifurcation of Heat Transport in High Temperature Plasma
753 セル充填位置がアルミニウムハニカムの面内衝撃圧縮特性に与える影響(OS7-3 衝撃工学,OS7 先進材料および構造の力学特性評価)

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