山崎 修 | (株)東芝 生産技術センター
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概要
関連著者
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山崎 修
(株)東芝 生産技術センター
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高木 茂行
(株)東芝 生産技術センター
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南部 健一
東北大学流体科学研究所
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南部 健一
東北大・流体研
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間瀬 康一
(株)東芝 半導体事業部
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木下 和哉
(株)東芝
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尾上 誠司
(株)東芝 生産技術センター
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井柳 克
(株)東芝 生産技術センター
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八尋 和之
(株)東芝
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間瀬 康一
(株)東芝
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青木 克明
(株)東芝 生産技術センター
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山内 健資
(株)東芝 生産技術センター
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加納 正明
(株)東芝 生産技術センター
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片岡 好則
(株)東芝生産技術研究所
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守屋 孝彦
芝浦メカトロニクス(株)
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古矢 正明
芝浦メカトロニクス(株)
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山田 勝哉
(株)東芝生産技術センター
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片岡 好則
(株)東芝生産技術センター
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片岡 好則
(株)東芝 生産技術研究所
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寺本 竜一
東芝
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尾上 誠司
東芝
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山崎 修
東芝
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高木 茂行
東芝
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山崎 修
(株)東芝生産技術センター
著作論文
- 300mm対応スロットアンテナプラズマ源による低損傷・高速ダウンフロープロセスの研究
- 反応性イオンエッチング(RIE), スパッタ及び化学気相成長法(CVD)におけるシミュレーション
- 121 蒸着装置の面内均一性を改善するマスク形状・配置の最適化(計算力学と最適化(4),OS19 計算力学と最適化)
- モンテカルロ法によるイオン化スパッタシミュレーション : 第2報,ウエハ表面におけるCu原子・イオンの挙動の考慮(流体工学,流体機械)
- モンテカルロ法によるイオン化スパッタシミュレーション : 第1報,Cu埋め込み形状の再現(流体工学,流体機械)