高野 泰 | 静岡大学大学院電子科学研究科
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概要
関連著者
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高野 泰
静岡大学大学院電子科学研究科
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山田 祥二
静岡理工科大学電子工学科
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山田 祥二
静岡大学電子工学研究所
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喜多尾 道火児
静岡大学電子工学研究所
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喜多尾 道火児
静岡大 電子工研
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福家 俊郎
静岡大学工学部
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福家 俊郎
静岡大学大学院
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高野 泰
静岡大学大学院工学研究科
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高野 泰
静岡大学工学部
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梅澤 昌義
静岡大学大学院
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小林 佳津
静岡大学大学院
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山田 祥二
静大電子研
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高野 泰
静大電子研
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喜多尾 道火児
静大電子研
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角谷 正友
静岡大学工学部
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平田 和人
日本鉱業(株)
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伊藤 孝浩
静岡大学工学部電気・電子工学科
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伊藤 孝浩
静岡大学大学院電子科学研究科
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角谷 正友
「応用物理」編集委員会
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千田 昌伸
静大電子研
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喜多尾道 火児
静大電子研
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千田 昌伸
豊田合成株式会社
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角谷 正友
静岡大学工学部:科学技術振興機構
著作論文
- MOCVD法により低温成長させたGaAs基板上のInGaAs層およびInAs層(結晶成長評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,その他の電子材料))
- MOCVD法により低温成長させたGaAs基板上のInGaAs層およびInAs層(結晶成長評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,その他の電子材料))
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- GaN/Al_2O_3成長における低温バッファ層の役割
- As_2Se_3ガラスの交流導電率へのMn添加効果
- 30a-A-12 非晶質aS_2Se_3:Tlの電気伝導
- 2p-F-6 非晶質As_2Se_3の交流導電率へのMn添加の影響
- As_2Se_3ガラスの交流導電率への不純物添加効果
- 非晶質As_2Se_3の交流電気伝導に対するCu添加効果
- 13a-E-17 Cu添加As_2Se_3ガラスの交流伝導