劉 紫園 | 半導体理工学研究センター

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概要

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• 同名の論文著者
• 半導体理工学研究センターの論文著者

関連著者

• 尾嶋 正治

  東京大学大学院工学系研究科応用化学専攻

• 尾嶋 正治

  東京大学大学院工学系研究科

• 豊田 智史

  東京大学大学院工学系研究科

• 劉 紫園

  半導体理工学研究センター

• 尾嶋 正治

  東大院工

• 岡林 潤

  東京工業大学大学院理工学研究科物性物理学専攻

• 組頭 広志

  Jst-crest:東大院工

• 岡林 潤

  東大院工

• 組頭 広志

  東大工

• 池田 和人

  (株)半導体先端テクノロジーズ(selete)

• 臼田 宏治

  半導体MIRAI-ASET

• 組頭 広志

  東京大学大学院工学系研究科

• 岡林 潤

  東京大学大学院工学系研究科

• 劉 国林

  半導体理工学研究センター

• 池田 和人

  半導体理工学研究センター

• 臼田 宏治

  半導体理工学研究センター

• 尾嶋 正治

  東大工

• 尾嶋 正治

  Jst-crest:東大院工

• 組頭 広志

  東大院工

• 鎌田 洋之

  東京大学大学院工学系研究科

• 岩本 邦彦

  半導体理工学研究センター

• 助川 孝江

  半導体理工学研究センター

• 高橋 晴彦

  東大工

• 尾嶋 正治

  Ntt電子応用研究所

• 高橋 晴彦

  東京大学大学院工学系研究科

• 尾嶋 正治

  東大 大学院工学系研究科

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著作論文

• 放射光光電子分光を用いた金属/高誘電率酸化物ゲートスタック構造の深さ方向解析
• 角度分解光電子分光を用いたSiO_2/SiN積層膜の窒素濃度分布の解析(ゲート絶縁膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)
• 光電子分光とX線吸収分光を用いた絶縁膜の化学結合状態、結晶化状態およびバンドオフセットの評価(ゲート絶縁膜, 容量膜, 機能膜及びメモリ技術)

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