上田 公二 | 九州大学大学院システム情報研究院
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概要
関連著者
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上田 公二
九州大学大学院システム情報研究院
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佐道 泰造
Kyushu Univ. Fukuoka Jpn
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上田 公二
九州大学大学院システム情報科学研究院
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宮尾 正信
九州大学大学院システム情報科学
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佐道 泰造
九州大学大学院システム情報科学
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権丈 淳
九州大学大学院システム情報科学
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Kenjo A
Kyushu Univ.
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上田 公二
九州大学 大学院システム情報科学
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佐道 泰造
九州大学 大学院システム情報科学
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宮尾 正信
九州大学 大学院システム情報科学
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熊野 守
九州大学大学院システム情報研究院
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熊野 守
九州大学大学院システム情報科学研究院
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熊野 守
九州大学
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鳴海 一雅
日本原子力研究開発機構先端基礎研究センター
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小柳 光正
東北大学工学研究科
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小柳 光正
東北大学 工学研究科 機械知能工学専攻
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権丈 淳
九州大学 大学院システム情報科学
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前田 佳均
京都大学大学院エネルギー科学研究科
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安藤 裕一郎
九州大学大学院システム情報研究院
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竹内 悠
九州大学大学院システム情報科学研究院
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竹内 悠
九州大学大学院システム情報科学府電子デバイス工学専攻
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宮尾 正信
九州大学 大学院システム情報科学研究院
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平岩 佑介
京都大学大学院エネルギー科学研究科
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佐道 泰造
九州大学システム情報科学府
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佐道 泰造
九州大学
-
宮尾 正信
九州大学
著作論文
- Fe_3Si/Ge(111)ヘテロエピタキシャル成長の軸配向性の評価(シリコン関連材料の作製と評価)
- 絶縁膜上における磁性金属ナノドットの形成(薄膜(Si,化合物,有機)機能デバイス・材料・評価技術)
- 強磁性体シリサイド/Geの低温エピタキシャル成長とスピントランジスタ(第15回先端半導体デバイスの基礎と応用に関するアジア・太平洋ワークショップ(AWAD2007))
- 強磁性体シリサイド/Geの低温エピタキシャル成長とスピントランジスタ(第15回先端半導体デバイスの基礎と応用に関するアジア・太平洋ワークショップ(AWAD2007))
- スピントロニクス用強磁性シリサイド(Fe_3Si)/SiGeの低温形成
- 絶縁膜上における磁性金属ナノドットの形成(薄膜(Si,化合物,有機)機能デバイス・材料・評価技術)
- 絶縁膜上における磁性金属ナノドットの形成(薄膜(Si,化合物,有機)機能デバイス・材料・評価技術)
- 分子ビームエピタキシャル成長法によるFe_3Si/Siの形成(New Materials and Processes, 先端デバイスの基礎と応用に関するアジアワークショップ(AWAD2005))
- 分子ビームエピタキシャル成長法によるFe_3Si/Siの形成(New Materials and Processes, 先端デバイスの基礎と応用に関するアジアワークショップ(AWAD2005))