宮尾 正信 | 九州大学 大学院システム情報科学
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概要
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九州大学
著作論文
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- 絶縁膜上における非晶質SiGeのインデント誘起固相成長
- スピントロニクス用強磁性シリサイド(Fe_3Si)/SiGeの低温形成
- 絶縁膜上における磁性金属ナノドットの形成(薄膜(Si,化合物,有機)機能デバイス・材料・評価技術)
- 絶縁膜上における磁性金属ナノドットの形成(薄膜(Si,化合物,有機)機能デバイス・材料・評価技術)
- SiGeミキシング誘起溶融成長によるGOI (Ge on Insulator) の形成 : 人工単結晶への道