小林 俊章 | 工学院大学工学部電子工学科

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概要

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関連著者

• 本田 徹

  工学院大学大学院工学研究科

• 本田 徹

  工学院大学工学部

• 小林 俊章

  工学院大学工学部電子工学科

• 本田 徹

  工学院大学

• 川西 英雄

  工学院大学電子工学科

• 江川 慎一

  工学院大学工学部電子工学科

• 馬場 太一

  工学院大学工学部電子工学科

• 秋山 誠和子

  工学院大学工学部電子工学科

• 川西 英雄

  工学院大 工

• 川西 英雄

  工学院大学・工学部

• 小宮山 重利

  工学院大学工学部

• 増山 佳宏

  工学院大学工学部

• 杉本 浩一

  工学院大学工学部電子工学科

• 平山 航史

  工学院大学工学部電子工学科

• 蓮沼 範行

  工学院大学工学部電子工学科

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著作論文

• GaN微結晶を用いた紫外EL素子製作の検討(結晶成長・特性評価, 窒化物半導体光・電子デバイス・材料, 及び関連技術, 及び一般(窒化物半導体国際ワークショップ))
• GaN微結晶を用いた紫外EL素子製作の検討(結晶成長・特性評価, 窒化物半導体光・電子デバイス・材料, 及び関連技術, 及び一般(窒化物半導体国際ワークショップ))
• GaN微結晶を用いた紫外EL素子製作の検討(結晶成長・特性評価, 窒化物半導体光・電子デバイス・材料, 及び関連技術, 及び一般(窒化物半導体国際ワークショップ))
• 化合物原料分子線堆積法によるAlN薄膜の低温堆積(結晶成長・特性評価, 窒化物半導体光・電子デバイス・材料, 及び関連技術, 及び一般(窒化物半導体国際ワークショップ))
• 化合物原料分子線堆積法によるAlN薄膜の低温堆積(結晶成長・特性評価, 窒化物半導体光・電子デバイス・材料, 及び関連技術, 及び一般(窒化物半導体国際ワークショップ))
• 化合物原料分子線堆積法によるAlN薄膜の低温堆積(結晶成長・特性評価, 窒化物半導体光・電子デバイス・材料, 及び関連技術, 及び一般(窒化物半導体国際ワークショップ))
• 有機金属気相成長法によるGaN系ユニポーラUVLEDの製作(窒化物及び混晶半導体デバイス)
• 有機金属気相成長法によるGaN系ユニポーラUVLEDの製作(窒化物及び混晶半導体デバイス)
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