SPring-8の産業利用(19・最終回)放射光硬X線光電子分光の物性評価への応用--ハードディスク用ダイヤモンド様カーボン上の有機潤滑膜
スポンサーリンク
概要
著者
関連論文
- Sr_2CrReO_6薄膜の放射光光電子分光
- 27aPS-103 ハーフメタル強磁性体Co_2MnSiの電子状態における温度依存性(27aPS 領域3ポスターセッション(遍歴磁性体・化合物磁性体・f電子系・磁性一般),領域3(磁性,磁気共鳴))
- 23pPSA-15 CdSe量子ドットを吸着したナノ構造TiO_2電極の硬X線光電子分光(領域5ポスターセッション,領域5,光物性)
- 18pZA-9 (La,Ba)MnO_3の硬X線光電子分光 : 光電子スペクトルと磁性(光電子分光(超伝導体・強相関系),領域5,光物性)
- 19pPSA-7 Fe_3O_4薄膜の硬X線光電子分光における磁気円二色性(ポスターセッション,領域5,光物性)
- 28pPSA-6 熱電材料として期待される擬1次元Tl化合物の硬X線光電子スペクトル(28pPSA 領域5ポスターセッション,領域5(光物性))
- CVD成長多層グラフェン膜の顕微ラマン分光とバルク敏感XPSによる評価
- 30pYK-1 (GeTe)_(Sb_2Te_3)_x相変化メモリ-材料の硬X線光電子分光(30pYK 液体金属,領域6(金属,超低温,超伝導・密度波))
- 硬 X 線光電子分光法による素子薄膜のバルク敏感電子状態評価
- 21pQF-5 終端制御SrTiO_3/La_Sr_MnO_3界面の硬X線光電子分光(21pQF Mn酸化物,領域8(強相関系:高温超伝導,強相関f電子系など))
- 放射光を利用した硬X線光電子分光の物性評価への応用
- 23pPSA-18 硬X線励起光を用いたFe_3O_4の電子状態の研究(領域5ポスターセッション,領域5,光物性)
- 18pZA-8 エピタキシャル応力により物性を制御したLa_Sr_xMnO_3薄膜の硬X線光電子分光(光電子分光(超伝導体・強相関系),領域5,光物性)
- 19pTB-13 ホイスラー型合金Ru_Fe_xCrGeの電子状態(19pTB f電子系・化合物磁性,領域3(磁性,磁気共鳴))
- 28pRF-8 ハーフホイスラー型強磁性合金XMnSb(X=Ni,Pt)の電子構造(28pRF 光電子分光・逆光電子分光,領域5(光物性))
- 28pRF-13 光電子の反跳効果 : 理論(28pRF 光電子分光・逆光電子分光,領域5(光物性))
- 28pRF-12 光電子の反跳効果 : 実験(28pRF 光電子分光・逆光電子分光,領域5(光物性))
- 28pRF-3 硬x線を用いた銅酸化物高温超伝導体のCu 1s内殻光電子分光(28pRF 光電子分光・逆光電子分光,領域5(光物性))
- 27pPSA-55 ホイスラー合金Cu_2MnAlの光電子スペクトル(27pPSA 領域3ポスターセッション 薄膜・人工格子磁性,表面・界面磁性,微小領域磁性,遍歴磁性,化合物磁性,f電子系磁性磁性,領域3(磁性,磁気共鳴))
- NH^*ラジカルを用いて形成した直接窒化シリコン窒化膜の界面構造と界面準位密度(ゲート絶縁膜, 容量膜, 機能膜及びメモリ技術)
- 角度分解光電子分光法によるゲート絶縁膜/シリコン基板界面に形成される構造遷移層に関する研究(プロセス科学と新プロセス技術)
- マイクロ波励起プラズマを用いた高品質シリコン窒化膜の形成
- プラズマ窒化膜/Siの界面構造、サブナイトライド、価電子帯構造(ゲート絶縁膜、容量膜、機能膜及びメモリ技術)
- Si(100),(110)面上の極薄Si_3N_4-Si界面構造とその電気的特性
- 直接窒化膜特性のシリコン結晶面密度依存性,AWAD2006)
- 直接窒化膜特性のシリコン結晶面密度依存性
- 直接窒化膜特性のシリコン結晶面密度依存性(ゲート絶縁膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)
- 26pXP-10 グラファイトの硬X線励起高分解能内殻光電子スペクトル(領域5, 領域3, 領域8合同招待講演,領域5(光物性))
- 25aXQ-8 充填型ホイスラー合金Co_2MnGeの光電子分光(光電子分光・逆光電子分光,領域5(光物性))
- 24pXP-4 鋼酸化物高温超伝導体のCu 1s内殻硬x線光電子分光(光電子分光,領域5(光物性))
- 24aPS-33 Y_Ca_xTiO_3の光電子分光(領域5ポスターセッション,領域5(光物性))
- 直接窒化膜特性のシリコン結晶面密度依存性
- 24pXP-5 酸化物高温超電導体の内殻2p硬X線光電子分光における新しいスクリーニング効果(光電子分光,領域5(光物性))
- 27pTA-8 光電子分光から見たCe系充填スクッテルダイト化合物の混成効果と電子状態(スクッテルダイト,領域8(強相関系:高温超伝導,強相関f電子系など))
- 硬X線光電子分光法による素子薄膜のバルク敏感電子状態評価
- SPring-8の産業利用(19・最終回)放射光硬X線光電子分光の物性評価への応用--ハードディスク用ダイヤモンド様カーボン上の有機潤滑膜
- 電子-イオン・コインシデンス分光法を用いた固体表面における光刺激イオン脱離の研究
- 25pRC-5 硬X線光電子分光の進展 : 角度および空間分解(25pRC 領域5,領域8,領域10合同シンポジウム:硬X線を利用したスペクトロスコピーによる電子状態研究の進展と将来展望,領域5(光物性))
- 25pRC-5 硬X線光電子分光の進展 : 角度および空間分解(25pRC 領域5,領域8,領域10合同シンポジウム:硬X線を利用したスペクトロスコピーによる電子状態研究の進展と将来展望,領域8(強相関系:高温超伝導,強相関f電子系など))
- 硬X線光電子分光による極浅プラズマドーピングとイオン注入サンプルの化学結合状態の比較
- 光電子制御プラズマCVD法で成膜したネットワークナノグラファイト配線(配線・実装技術と関連材料技術)
- 25aED-10 SrMoO_3・CaMoO_3薄膜の硬・軟X線光電子分光(25aED Co酸化物・熱電材料,領域8(強相関係:高温超伝導,強相関f電子系など))
- 23pGP-8 強磁性形状記憶合金Ni-Mn-Gaの硬X線光電子分光(23pGP 酸化物・化合物磁性,領域3(磁性,磁気共鳴))
- ラマン分光法およびXPSによるSiO_2/Si基板上での多層グラフェン成長初期の研究(配線・実装技術と関連材料技術)
- 26pYH-4 V_W_xO_2薄膜におけるパイエルス転移とMott転移の競合状態(26pYH V酸化物・秩序型ペロブスカイト,領域8(強相関系:高温超伝導,強相関f電子系など))
- 19pFE-7 Sm_Ca_xNiO_3薄膜の硬X線光電子分光(19aFE Co,Ni,その他遷移金属酸化物,領域8(強相関係:高温超伝導,強相関f電子系など))
- 27aPS-135 SrIrO_3/SrTiO_3超格子薄膜の硬X線光電子分光と軟X線吸収分光(27aPS 領域8ポスターセッション(磁性,低温1),領域8(強相関系:高温超伝導,強相関f電子系など))
- Sr_2CrReO_6薄膜の放射光光電子分光