銅フタロシアニンLB膜の光照射によるガス応答特性
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概要
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- 電子情報通信学会の論文
- 1999-11-26
著者
-
近藤 祐介
新潟大学工学部電気電子工学科
-
加藤 景三
新潟大学
-
Kato K
Nippon Telegraph And Telephone Corp. Tokyo Jpn
-
Kato K
Shizuoka Johoku Senior High School Shizuoka Jpn
-
Kato Ken-ichi
Department Of Electrical Engineering Faculty Of Engineering Osaka City University
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