帯電液滴エッチングで生成したポリメチルメタクリレート表面のX線光電子分光法及び走査形プローブ顕微鏡による解析
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
エレクトロスプレーで発生した帯電液滴（Electrospray Droplet Impact, EDI）でPMMAフィルムをエッチングし，XPSで深さ方向分析を実施した．エッチングの深さが増加するに伴い，表面荒れは増大するが，PMMA組成及び官能基の存在比に変化は観測されなかった．一方，エッチングの深さ増加に伴う表面荒さの挙動はXPSで測定されたC1sスペクトルの形状及びこの波形分離から得られた分子構造変化と一致している．これらの結果から帯電液滴エッチングは帯電液滴の衝撃時に発生する衝撃波により分子・原子脱離する現象であり，官能基の脱離ではなく主鎖単位でエッチングされることが明らかとなった．
著者
関連論文
- 探針エレクトロスプレーの開発と応用
- レーザースプレー質量分析が可能にした生体高分子複合体の結合親和性の定量的な解析
- 帯電液滴衝撃(EDI)エッチング法によるポリマーのSIMS、XPSの深さ方向分析 (2009年度実用表面分析講演会(PSA-09)講演資料)
- 帯電水滴衝撃イオン化/二次イオン質量分析法
- 基礎から学ぶマススペクトロメトリー/質量分析の源流第8回 エレクトロスプレーの基礎
- X線光電子分光深さ方向分析用帯電液滴エッチング銃の開発
- 基礎から学ぶマススペクトロメトリー/質量分析の源流 : 第7回 気相イオン分子反応
- 基礎から学ぶマススペクトロメトリー/質量分析の源流 : 第8回 エレクトロスプレーの基礎
- 帯電液滴エッチング法によるPETフィルムのXPS深さ方向分析
- 帯電液滴エッチングで生成したポリメチルメタクリレート表面のX線光電子分光法及び走査形プローブ顕微鏡による解析
- 基礎から学ぶマススペクトロメトリー/質量分析の源流 : 第9回 Secondary Ion Mass Spectrometry (SIMS), クラスターSIMS, 帯電液滴衝撃SIMS
- 次世代イオン化法の創生 (特集/最先端科学を拓く質量分析)
- 気相クラスターイオンOCS^+ (OCS)_nの熱力学的安定性
- c-C_4F_8 の関与する特異なイオン-分子反応
- 脱離イオン化質量分析法による難溶性顔料の分析
- 大気圧化学イオン化法によるポリジメチルシロキサンの質量分析
- C_5F_8の気相イオン分子反応
- 基礎から学ぶマススペクトロメトリー/質量分析の源流第9回 Secondary Ion Mass Spectrometry (SIMS)，クラスターSIMS，帯電液滴衝撃SIMS
- 次世代を担う新たなイオン化法
- エレクトロスプレー帯電液滴衝撃/二次イオン質量分析における二次イオンへの内部エネルギー移動とその膜厚依存性
- クラスター二次イオン質量分析計の展望--帯電液滴衝撃/二次イオン質量分析計の進展
- エレクトロスプレー帯電液滴衝撃二次イオン質量分析法
- これからのソフトイオン化法
- ガス分析用大気圧ペニングイオン源の開発
- 8 KにおけるAr, Kr, およびXe薄膜の400eV He^+イオン衝撃による二次イオンのTOF解析
- これからの質量分析に対する展望 : イオン化法
- 400eVのHe^+ イオンによる8Kの窒素膜および酸素膜からの二次イオン生成
- XPS,SPMを用いたMEH-PPV(有機EL材料)の表面解析
- ソニックスプレーイオン化質量分析法
- 帯電液滴エッチングで得られる高分子材料表面挙動のXPS・AFMによる解析
- 帯電液滴エッチングで生成したポリメチルメタクリレート表面のX線光電子分光法及び走査形プローブ顕微鏡による解析
- 日本質量分析学会の最近の活動と将来の課題
- MS学のリエゾン化
- 立松 晃 先生を悼む
- 速報論文投稿のすすめ
- X線光電子分光法におけるC1sスペクトル波形解析によるダイヤモンド薄膜の評価
- エレクトロスプレー帯電水滴衝撃による脱離イオン化メカニズム
- 宇宙における化学進化の謎を解く : 低温ほど速く進むトンネル反応(宇宙の化学)
- アジア圏での質量分析国際会議の開催に向けて
- 極低温トンネル反応による薄膜半導体合成
- 気相および凝集相におけるイオン反応の基礎的研究
- 高速粒子による衝突活性化
- 宇宙における物質進化とトンネル反応
- エレクトロスプレー帯電水滴衝撃による脱離イオン化メカニズム
- XPSによる帯電液滴照射と低速単原子イオン照射後の高分子材料表面解析
- 巨大クラスターイオン衝撃によるX線光電子分光法の深さ方向分析の展開
- 巨大クラスターイオン衝撃によるX線光電子分光法の深さ方向分析の展開