高速粒子による衝突活性化
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
Collisional activation of the matter induced by the bombardment of the fast particle is summarized. The particle with the velocity higher than the Bohr velocity (transit time through 5A shorter than 2.5×10-16s) experiences the electronic stopping power when it passes through the matter and induces dense electronic excitations and ionizations which results in the heavy sputtering of the matter. This kind of activation is usefully applied in the PDMS. When the particle velocity becomes lower than the Bohr velocity, the energy is mainly deposited to the matter by the nuclear stopping power, i.e., energy loss is governed by the screened Coulombic collisions of the atoms giving rise to the momentum transfer to the target nuclei. When the transit time of the particle through 5A is between 2.5×10-16-10-14 s, the electronic excitation and ionization take place by the collision. These phenomena are fully utilized in the FAB/SIMS and CID techniques. With the transit time in the range of 10-14-2.5×10-13s, the velocity is not high enough for the electronic excitation and the particle loses its energy mainly by the vibrational and phonon excitation of the target. This range of the velocity corresponds to that of the massive cluster impact ionization. With the velocity equal to or lower than 2.5×10-13s, the energy of the incident particle is consumed mainly by the phonon excitation and the collision results in the modest heating of the colliding interface between the projectile and the target. This range of the velocity is successfully used in the ionized cluster beam technique developed by Takagi of the Kyoto University.
- 日本質量分析学会の論文
- 1996-12-02
著者
関連論文
- 探針エレクトロスプレーの開発と応用
- レーザースプレー質量分析が可能にした生体高分子複合体の結合親和性の定量的な解析
- 帯電液滴衝撃(EDI)エッチング法によるポリマーのSIMS、XPSの深さ方向分析 (2009年度実用表面分析講演会(PSA-09)講演資料)
- 帯電水滴衝撃イオン化/二次イオン質量分析法
- 基礎から学ぶマススペクトロメトリー/質量分析の源流第8回 エレクトロスプレーの基礎
- 基礎から学ぶマススペクトロメトリー/質量分析の源流 : 第7回 気相イオン分子反応
- 基礎から学ぶマススペクトロメトリー/質量分析の源流 : 第8回 エレクトロスプレーの基礎
- クリーンエネルギー研究センター
- 帯電液滴エッチングで生成したポリメチルメタクリレート表面のX線光電子分光法及び走査形プローブ顕微鏡による解析
- 基礎から学ぶマススペクトロメトリー/質量分析の源流 : 第9回 Secondary Ion Mass Spectrometry (SIMS), クラスターSIMS, 帯電液滴衝撃SIMS
- 最近のイオン化法の動向
- 次世代イオン化法の創生 (特集/最先端科学を拓く質量分析)
- エレクトロスプレー最新情報
- 低温ほど速く進む固相トンネル反応 - 宇宙化学から物質合成まで -
- ESIはFABに比べなぜ多価イオンが出やすいのか?
- 宇宙物質の進化と暗黒星雲の化学
- 低温でのクラスター形成による同位体分離
- 気相クラスターイオンOCS^+ (OCS)_nの熱力学的安定性
- c-C_4F_8 の関与する特異なイオン-分子反応
- 脱離イオン化質量分析法による難溶性顔料の分析
- 大気圧化学イオン化法によるポリジメチルシロキサンの質量分析
- C_5F_8の気相イオン分子反応
- 基礎から学ぶマススペクトロメトリー/質量分析の源流第9回 Secondary Ion Mass Spectrometry (SIMS),クラスターSIMS,帯電液滴衝撃SIMS
- 宇宙物質の進化と暗黒星雲におけるトンネル反応
- 次世代を担う新たなイオン化法
- エレクトロスプレー帯電液滴衝撃/二次イオン質量分析における二次イオンへの内部エネルギー移動とその膜厚依存性
- クラスター二次イオン質量分析計の展望--帯電液滴衝撃/二次イオン質量分析計の進展
- エレクトロスプレー帯電液滴衝撃二次イオン質量分析法
- これからのソフトイオン化法
- ガス分析用大気圧ペニングイオン源の開発
- 8 KにおけるAr, Kr, およびXe薄膜の400eV He^+イオン衝撃による二次イオンのTOF解析
- これからの質量分析に対する展望 : イオン化法
- 400eVのHe^+ イオンによる8Kの窒素膜および酸素膜からの二次イオン生成
- ソニックスプレーイオン化質量分析法
- 帯電液滴エッチングで生成したポリメチルメタクリレート表面のX線光電子分光法及び走査形プローブ顕微鏡による解析
- 日本質量分析学会の最近の活動と将来の課題
- MS学のリエゾン化
- 立松 晃 先生を悼む
- 速報論文投稿のすすめ
- X線光電子分光法におけるC1sスペクトル波形解析によるダイヤモンド薄膜の評価
- エレクトロスプレー帯電水滴衝撃による脱離イオン化メカニズム
- 宇宙における化学進化の謎を解く : 低温ほど速く進むトンネル反応(宇宙の化学)
- アジア圏での質量分析国際会議の開催に向けて
- 極低温トンネル反応による薄膜半導体合成
- 気相および凝集相におけるイオン反応の基礎的研究
- 高速粒子による衝突活性化
- 宇宙における物質進化とトンネル反応
- エレクトロスプレー帯電水滴衝撃による脱離イオン化メカニズム
- 気相イオン-分子反応と高圧質量分析計-1-気相イオン-分子反応の研究の歴史と動向
- 気相イオン-分子反応と高圧質量分析計-2-高圧質量分析計の原理と応用
- 巨大クラスターイオン衝撃によるX線光電子分光法の深さ方向分析の展開
- 巨大クラスターイオン衝撃によるX線光電子分光法の深さ方向分析の展開