高品質Fe3Si/Siからなるショットキートンネル電極を用いたシリコン中のスピン伝導の電気的検出
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
We investigated the epitaxial growth of high-quality Fe3Si thin films on Si(111) and demonstrated electrical injection and detection of spin-polarized electrons in Si through the Fe3Si/Si Schottky-tunnel contacts. TEM observations and analyses of electron diffraction patterns revealed that precisely controlling the Fe/Si ratio during growth is important to obtain well ordered Fe3Si structures and atomically abrupt heterointerfaces at the same time. The electrical properties of Fe3Si/Si Schottky diodes with various carrier concentrations were also examined, and highly transparent tunnel contacts were demonstrated. We were able to clearly detect nonlocal spin signals in Si at 150K using Fe3Si/Si lateral four-probe devices.
著者
-
安藤 裕一郎
九州大学 大学院システム情報科学研究院
-
笠原 健司
九州大学 大学院システム情報科学研究院
-
榎本 雄志
九州大学 大学院システム情報科学研究院
-
村上 達彦
九州大学 大学院システム情報科学研究院
-
浜屋 宏平
九州大学 大学院システム情報科学研究院
-
木村 崇
九州大学 稲盛フロンティア研究センター
-
澤野 憲太郎
東京都市大学 総合研究所
-
宮尾 正信
九州大学 大学院システム情報科学研究院
-
澤野 憲太郎
東京都市大学
-
澤野 憲太郎
東京都市大
関連論文
- 20pHV-3 Si/SiGe2次元金属相におけるサイクロトロン共鳴(20pHV 量子ホール効果,領域4(半導体,メゾスコピック系・局在))
- 高品質Fe3Si/Siからなるショットキートンネル電極を用いたシリコン中のスピン伝導の電気的検出
- 25pXD-3 Si/SiGe量子井戸二次元電子系における井戸幅と谷分離エネルギーの関係(量子ホール効果,領域4,半導体,メゾスコピック系・局在)
- 20pYK-11 シリコン2次元電子系におけるランダウ準位交差と擬スピン非偏極状態の可能性(20pYK 量子ホール効果,領域4(半導体,メゾスコピック系・局在))
- 21aTH-6 高移動度シリコン2次元電子におけるランダウ準位交差と電気伝導の巨大異方性(量子ホール効果,領域4,半導体,メゾスコピック系・局在)
- 26aXL-3 強相関シリコン2次元電子系におけるスクリーニング効果(26aXL 半導体スピン物性(実験),領域4(半導体,メゾスコピック系・局在))
- 絶縁膜上における非晶質SiGeのインデント誘起固相成長
- スピントロニクス用強磁性シリサイド(Fe_3Si)/SiGeの低温形成
- イオン注入法を用いた歪み緩和SiGe薄膜の作製と応用
- 24aWQ-2 Lateral dot fabrication by using a MOS electric gate on SiGe hetero structure
- 24aWQ-3 PdショットキーゲートによるSi/SiGe量子ドットの作製とその評価(24aWQ 量子ドット,領域4(半導体メゾスコピック系・局在))
- 25pXL-5 Si/SiGe量子ホール系における非局所抵抗のスピン依存性(25pXL 量子ホール効果,領域4(半導体,メゾスコピック系・局在))
- 27pXB-6 Si/SiGe量子ホール系におけるエッジチャネル伝導(27pXB 量子ホール効果,領域4(半導体,メゾスコピック系・局在))
- 23aWH-9 Si/SiGe量子ホールダイオードにおけるトンネル電流のスピン依存性(量子ホール効果,領域4,半導体,メゾスコピック系・局在)
- 19aRC-1 Si/SiGe量子ホール系における谷分離端状態伝導(量子ホール効果(実験),領域4,半導体,メゾスコピック系・局在)
- 23aQG-2 シリコン中リンの低磁場電子・核スピン共鳴(23aQG 磁気共鳴一般・実験技術開発・磁性一般,領域3(磁性,磁気共鳴))
- 28aHD-1 Si/SiGe量子ドットにおけるショットキーゲート電極に対する考察(28aHD 量子ドット,領域4(半導体,メゾスコピック系・局在))
- 26aPS-30 純スピン流注入により誘導されるループ電流とその検出(26aPS 領域3ポスターセッション,領域3(磁性,磁気共鳴))
- 22pRC-9 歪みシリコンの価電子帯分散構造の実験的解明(22pRC 表面界面電子物性(表面伝導・光電子分光),領域9(表面・界面,結晶成長))
- 角度分解硬X線光電子分光法によるHfO_2/Si/歪みGe/SiGe構造の評価(プロセス科学と新プロセス技術)
- 25pCJ-3 スピン偏極したシリコン2次元電子系におけるサイクロトロン共鳴(25pCJ 量子ホール効果(整数量子ホール効果),領域4(半導体,メゾスコピック系・局在))
- 第一原理計算によるGe表面でのドーパント表面偏析挙動の解析(ゲート絶縁薄膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)
- 18pFB-7 Ge/SiGe2次元ホール系におけるランダウ準位交差の観測(18pFB 量子ホール効果(整数量子ホール効果),領域4(半導体,メゾスコピック系・局在))
- 27aXQ-1 Ge/SiGe量子井戸におけるランダウ準位反交差と弱反局在効果の観測(27aXQ 量子ホール効果(整数量子ホール効果),領域4(半導体,メゾスコピック系・局在))
- AR-XPS及びHAX-PESによるSiO_2/SiC界面の化学結合状態評価(プロセス科学と新プロセス技術)
- 29aXQ-3 ノンドープSi/SiGeウェハーを用いた横型ドット開発(29aXQ 量子ドット,領域4(半導体,メゾスコピック系・局在))
- 第一原理計算によるGe表面でのドーパント表面偏析挙動の解析