C-5-1 Ag接点間アークの熱力学・輸送特牲に対する雰囲気ガス圧力の影響(C-5.機構デバイス,一般セッション)
スポンサーリンク
概要
著者
関連論文
-
直流20-500V/5-30A回路における開離時アークの諸特性(放電・EMC/一般)
-
C-5-1 DC42V-6A 抵抗性回路内の継電器搭載 Pd 電気接点での転移方向
-
42V-5Ω及び7Ω回路内におけるAgCdO12wt%開閉電気接点対の転移突起に関する比較研究(機構デバイスの信頼性,信頼性一般)
-
逆転磁場ピンチプラズマにおけるイオンエネルギースペクトルの時間発展計測
-
高沸点電極における真空アーク陰極足の特性値の比較
-
高沸点電極における真空アーク陰極足の特性値の比較
-
直流20-500V/5-30A回路における開離時アークの諸特性(放電・EMC/一般)
-
C-5-6 閉成責務動作接点対でのアーク足の存在場所(C-5.機構デバイス,一般講演)
-
CS-5-4 接点開離直後の間欠的アーク放電の発生メカニズム(CS-5.車載用機構デバイスの信頼性技術とその課題,シンポジウム)
-
電気接点に埋め込まれた永久磁石の極性が開離時アークの回転運動に与える影響
-
C-5-9 永久磁石を埋め込む極性が開離時アークの回転駆動に与える影響(C-5.機構デバイス,一般セッション)
-
C-5-8 横磁界印加時の開離時アークの継続時間と開離速度の関係(C-5.機構デバイス,一般セッション)
-
銅電気接点対における開離時アークの分光特性
-
42V-5Ω及び7Ω回路内におけるAgCdO12wt%開閉電気接点対の転移突起に関する比較研究(機構デバイスの信頼性,信頼性一般)
-
高速度カメラによる開離時アークの発光分布計測
-
高速度カメラによる開離時アークの発光分布計測
-
AgNi10wt%電気接点対の転移突起成長と電気的特性
-
直流42V-4.2A回路を開閉するAg系電気接点対における材料転移の方向について
-
AgNi10wt%電気接点対の転移突起成長と電気的特性
-
直流42V-4.2A回路を開閉するAg系電気接点対における材料転移の方向について
-
直流42V回路を開閉する電気接点対の材料の違いによる突起の成長過程の比較・検討(「ショートノート」(卒業・修論特集))
-
14V-21A回路を開閉するリレー搭載Ag, Pd電気接点対でのアーク転移の方向について(「ショートノート」(卒業・修論特集))
-
直流回路を開閉する接点対に形成される転移突起の接触面上での位置と形状
-
直流回路を開閉する接点対に形成される転移突起の接触面上での位置と形状
-
直流14V及び42V回路内のAgSnO_2電気接点の転移突起に関する研究
-
直流14V及び42V回路内のAgSnO_2電気接点の転移突起に関する研究
-
C-5-3 継続器搭載電気接点の損傷とバウンスと動作・復旧時間 : (その5) 42V-5Ω抵抗回路でのPd接点対の損傷
-
閉成責務電気接点における接触面損傷とバウンスの特性
-
AgCdO12wt%電気接点対の突起成長と電気的特性
-
閉成責務電気接点における接触面損傷とバウンスの特性
-
AgCdO12twq%電気接点対の突起成長と電気的特性
-
C-5-4 継電器搭載電気接点の損傷とバウンスと動作・復旧時間(その1)スチッキング発生時のバウンス特性
-
継電器電気接点でのバウンスと転移突起の関係
-
CS-2-2 直流高電圧回路内で横磁界により駆動される開離時アークのアークの長さ(CS-2.接触・接続技術および電気接点現象の課題と展望,シンポジウムセッション)
-
CS-2-4 電気接点に埋め込まれた永久磁石による開離時アークの回転駆動効果の電流依存性(CS-2.接触・接続技術および電気接点現象の課題と展望,シンポジウムセッション)
-
CS-2-3 永久磁石埋め込み型接点で回転駆動される開離時アークの回転半径(CS-2.接触・接続技術および電気接点現象の課題と展望,シンポジウムセッション)
-
低速開離電気接点対におけるアーク放電の高速度カメラによる計測(機構デバイスの信頼性,信頼性一般)
-
低速開離電気接点対におけるアーク放電の高速度カメラによる計測(機構デバイスの信頼性,信頼性一般)
-
直流配電用プラグ&ソケットの開発(スマートグリッド分野のエネルギー変換技術関連,一般)
-
銅とニッケルの組み合わせ電気接点対における開離時アークの分光計測
-
電気接点対での開離時アーク特性 : 電圧・電流・アーク長の関係
-
電気接点対での開離時アーク特性 : 電圧・電流・アーク長の関係
-
開離時アーク後の接点表面の接触抵抗分布測定(機構デバイスの信頼性、信頼性一般)
-
開離時アーク後の接点表面の接触抵抗分布測定(機構デバイスの信頼性、信頼性一般)
-
C-5-8 開離時アーク後の接点表面の接触抵抗分布の開離速度依存性(C-5.機構デバイス,一般セッション)
-
C-5-5 直流300V抵抗性負荷回路内において磁気吹き消しされる開離時アーク消弧時のアーク長さの磁石形状依存性(C-5.機構デバイス,一般セッション)
-
開離時アーク後の領域ごとの接点表面状態と接触抵抗(放電,EMC/一般)
-
開離時アーク後の領域ごとの接点表面状態と接触抵抗(放電,EMC/一般)
-
C-5-2 等速開離接点でのアーク継続時間と電源電圧との実験式
-
Au,Ag,Cu,NiおよびPt電気接点対における等速開離時アークのV-I特性
-
Au,Ag,Cu,NiおよびPt電気接点対における等速開離時アークのV-I特性
-
CS-3-3 直流450V回路内において磁気吹き消しされる開離時アークの再点弧の有無によるアーク長さの違い(CS-3.コネクタおよび電気接点関連技術の最新動向-直流から高周波まで-,シンポジウムセッション)
-
直流48V回路における開離時アークの移動範囲と接点表面の曲率半径の関係
-
開離時アーク後の接点表面状態と接触抵抗分布の接点開離速度依存性
-
直流42V/7-21A回路内の電気接点対間で発生する開離時アークの小形磁石による磁界駆動
-
C-5-11 Ag,Ag/SnO_2接点間アークにおける輸送係数の計算(C-5. 機構デバイス,一般セッション)
-
C-5-8 開離時アークに接している電気接点表面の高速度分光撮影方法(C-5. 機構デバイス,一般セッション)
-
C-5-9 横磁界によって駆動される開離時アークの移動特性(C-5. 機構デバイス,一般セッション)
-
C-5-13 磁気吹き消しされる開離時アークの輝点の動き(C-5. 機構デバイス,一般セッション)
-
C-5-6 開離時アーク発生中の接点表面とアーク放電光の高速度同時撮影(C-5. 機構デバイス,一般セッション)
-
壁により移動範囲を制限される開離時アークの磁気吹き消し(機構デバイス)
-
壁により移動範囲を制限される開離時アークの磁気吹き消し(放電・実装,EMC,一般)
-
壁により移動範囲を制限される開離時アークの磁気吹き消し(放電・実装,EMC,一般)
-
C-5-1 Ag接点間アークの熱力学・輸送特牲に対する雰囲気ガス圧力の影響(C-5.機構デバイス,一般セッション)
-
CS-2-4 アークプラズマの熱力学・輸送特性に対するAg及びAg/SnO2接点材料蒸気混入の影響(CS-2.電気接点による接続・遮断技術の最新動向)
-
C-5-9 開離時アーク発生中の陽極表面とアーク放電光との高速度分光撮影(C-5.機構デバイス)
-
C-5-4 直流450V抵抗性負荷回路内において磁気吹き消しされる開離時アークの引き伸ばし速度(C-5.機構デバイス)
-
C-5-8 横磁界をかけたときのAg-C接点対間での開離時アークの継続時間(C-5.機構デバイス)
-
C-5-7 横磁界によって駆動される開離時アークの移動特性に対する接点表面形状の影響(C-5.機構デバイス)
もっと見る
閉じる
スポンサーリンク