OS1602 イオンビーム支援蒸着法により面外回転体に成膜したTiN薄膜の機械的特性評価(OS16-1 ナノ・マイクロ材料,薄膜の変形と強度,OS-16 ナノ・マイクロの視点からの変形と破壊の力学)
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概要
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TiN films were deposited on out-of-plane rotating Si(100) substrate by an ion beam assisted deposition technique. The influence of out-of-plane rotation on the film morphology, orientation and mechanical properties was investigated by SEM observation, X-ray diffraction analysis and nano-indentation tests respectively. TN film on rotated substrate showed granular morphology, which is different from that on the fixed substrate showing the columnar morphology. XRD spectra revealed that the out-of-plane rotation promoted the growth of TiN film with (200) preferred orientation. The hardness and elastic modulus of TiN film on rotated substrate was higher than that of TiN film on fixed substrate because of the change of orientation.
- 一般社団法人日本機械学会の論文
- 2011-07-16
著者
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