25pTH-9 室温PLD-ポストアニールプロセスにおけるペロブスカイト型酸化物薄膜の結晶化メカニズムの研究(25pTH 結晶成長,領域9(表面・界面,結晶成長))
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概要
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- 2011-03-03
著者
-
鶴井 隆雄
東北大金研
-
鶴井 隆雄
東北大学金属材料研究所
-
井口 史匡
東北大学大学院工学研究科
-
湯上 浩雄
東北大学大学院工学研究科
-
湯上 浩雄
東北大院工
-
蔭山 博之
産総研
-
井口 史匡
東北大院工
-
半田 克巳
京大化研
-
佐多 教子
東北大院工
-
田村 奨
東北大院工
-
野村 勝裕
産総研
-
佐多 教子
東北大学大学院工学研究科
-
湯上 浩雄
東北大学大学院
-
小峰 えりか
東北大院工
-
長尾 祐樹
京大院理
-
長尾 祐樹
京大院理:jst
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