20pXA-5 高温薄膜XRDによるSrZrO_3薄膜のエピタキシャルな結晶化プロセスの研究(20pXA 結晶成長,領域9(表面・界面,結晶成長))
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概要
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- 社団法人日本物理学会の論文
- 2008-08-25
著者
-
鶴井 隆雄
東北大金研
-
鶴井 隆雄
東北大学金属材料研究所
-
井口 史匡
東北大学大学院工学研究科
-
湯上 浩雄
東北大学大学院工学研究科
-
湯上 浩雄
東北大工
-
井口 史匡
東北大院工
-
佐多 教子
東北大院工
-
田村 奨
東北大院工
-
野原 佑太
東北大院工
-
佐多 教子
東北大学大学院工学研究科
-
野原 佑太
東北大学大学院工学研究科
-
田村 奨
東北大学大学院工学研究科
-
長尾 祐樹
東北大学CRESS
-
湯上 浩雄
東北大学大学院
-
長尾 祐樹
京大院理:jst
-
井口 史匡
東北大学大学院 工学研究科
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