S0502-3-2 円盤間狭領域における複雑流動の可視化計測(機能性流体工学の先端融合化(3))

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概要

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• The photoresist stripping process in photo lithography plays an important role in manufacturing large-scale integration. In the present study, experimental information is obtained to establish high concentrated ozone water technology, in stead of chemicals such as sulfuric acid or hydrochloric acid. We examine photoresist stripping using high concentration aqueous ozone. The photoresist stripping rate increased near an edge of disk nozzle. A flow velocity is obtained by visualization of a flow in a narrow gap between disks. A circulation is appeared near an edge of disk. It is considered that stripping rate of photoresist is affected by this flow structure between disks.

• 社団法人日本機械学会の論文
• 2009-09-12

著者

• 金子 暁子

  筑波大学大学院システム情報工学研究科

• 阿部 豊

  筑波大学大学院システム情報工学研究科

• 金子 暁子

  筑波大学大学院 システム情報工学研究科

• 浅野 俊之

  茨城県工業技術センター

• 加藤 健

  茨城県工業技術センター

• 藤森 憲

  筑波大学産学リエゾン共同研究センター

• 阿部 豊

  筑波大学大学院 システム情報工学研究科

• 濱田 博之

  筑波大院

• 池 昌俊

  (株)つくばセミテクノロジー

• 阿部 豊

  筑波大

• 金子 暁子

  筑波大学

• 藤森 憲

  筑波大学産学リエゾン共同センター

• 阿部 豊

  筑波大 大学院システム情報工学研究科

• 金子 暁子

  筑波大

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