0803 同軸円盤間回転流れの可視化計測(OS8-1 多次元ビジュアリゼーション,オーガナイズドセッション)
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概要
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The photoresist stripping process in photo lithography plays an important role in manufacturing large-scale integration. In the present study, experimental information is obtained to establish high concentrated ozone water technology, in stead of chemicals such as sulfuric acid or hydrochloric acid. We examine flow structure between a stationary and a rotating disk for the sake of improving removal rate of photoresist using flow structure between disks. A radial flow velocity and a rotational flow velocity are obtained by visualization of a flow in the narrow gap. Flow structure is compared with a removal rate of photoresist by using high concentrated ozone water. It is considered that removal rate of photoresist is affected by ozone water flow structure.
- 社団法人日本機械学会の論文
- 2009-11-06
著者
-
金子 暁子
筑波大学大学院システム情報工学研究科
-
阿部 豊
筑波大学大学院システム情報工学研究科
-
金子 暁子
筑波大学大学院 システム情報工学研究科
-
浅野 俊之
茨城県工業技術センター
-
加藤 健
茨城県工業技術センター
-
藤森 憲
筑波大学産学リエゾン共同研究センター
-
阿部 豊
筑波大学大学院 システム情報工学研究科
-
濱田 博之
筑波大院
-
池 昌俊
(株)つくばセミテクノロジー
-
阿部 豊
筑波大
-
金子 暁子
筑波大学
-
藤森 憲
筑波大学産学リエゾン共同センター
-
阿部 豊
筑波大 大学院システム情報工学研究科
-
金子 暁子
筑波大
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