D24 電界砥粒制御技術を応用した水ベーススラリー配置制御技術による研磨技術の基礎研究(OS-10 研磨技術)
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概要
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Author have been developed a novel polishing method using functional fluids which are dispersed abrasives with silicone oil. This fluid shows active reciprocate motion between electrodes under AC electric field at very low frequency. We have proposed new method of polishing for glasses, small seize end mill tool. And we have obtained novel method for glass polishing using the water with CeO2 abrasives with water under AC electric field.
- 社団法人日本機械学会の論文
- 2008-11-21
著者
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赤上 陽一
秋田県工業技術センター
-
赤上 陽一
秋田産総研
-
赤上 陽一
秋田県工技セ
-
赤上 陽一
秋田県産総研センター
-
久住 孝幸
秋田県産総研センター
-
佐藤 安弘
秋田県産総研センター
-
赤上 陽一
秋田県産業技術総合研究センター工業技術センター
-
赤上 陽一
秋田産業技術総合研究センター
-
佐藤 安弘
秋田産総研セ
-
久住 孝幸
秋田産総研セ
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